ZnO基薄膜晶体管的初步研究

提要	第1-7页
第一章 绪论	第7-18页
·ZnO 及MgO 材料的基本性质	第10-11页
·ZnO 材料研究进展	第11-16页
·ZnO 基薄膜晶体管的研究进展	第16-17页
·本论文的主要内容	第17-18页
第二章MgO/ZnO 反应源、设备和表征方法	第18-26页
·制备MgO/ZnO 薄膜的源材料	第18-20页
·制备MgO/ZnO 材料的MOCVD-Ⅱ系统	第20-22页
·MgO/ZnO 薄膜的MOCVD 制备步骤	第22-23页
·常用的样品表征方法	第23-26页
第三章 生长条件对MgO 薄膜质量的影响	第26-39页
·MOCVD 法制备MgO 薄膜	第26页
·衬底温度以及退火对MgO 薄膜的表面形貌的影响	第26-33页
·制备样品的SEM 图片	第26-32页
·对表面形貌成因的分析	第32-33页
·衬底温度对MgO 薄膜的可见光透射率的影响	第33-37页
·制备的MgO 样品的可见光透射率	第34-37页
·对样品透射率的分析	第37页
·衬底温度对MgO 薄膜的绝缘性的影响	第37-39页
第四章ZnO 基TFT 相关器件制备与研究	第39-50页
·ZnO 基TFT 的结构和工作原理	第39-41页
·ZnO 基TFT 的基本结构	第39-41页
·改变生长条件对ZnO 基TFT 器件特性的影响	第41-50页
·镁源气体流量对ZnO 基TFT 器件特性的影响	第41-45页
·氧气流量对ZnO 基TFT 器件特性的影响	第45-50页
结论	第50-51页
参考文献	第51-56页
致谢	第56-57页
摘要	第57-59页
Abstract	第59-60页