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纳米CMOS集成电路单粒子瞬态的若干机理研究

摘要第1-16页
Abstract第16-18页
第一章 绪论第18-42页
   ·课题研究背景第18-30页
     ·软错误是航天应用集成电路失效的主要因素第18-19页
     ·单粒子瞬态的研究需求迫切第19-23页
     ·辐射试验重要性日益凸显第23-30页
   ·国内外研究现状与不足第30-38页
     ·单粒子瞬态的产生机理第30-33页
     ·器件级单粒子瞬态的研究第33-35页
     ·电路级单粒子瞬态的研究第35-38页
   ·本文研究工作第38-39页
   ·本文组织结构第39-42页
第二章 寄生双极放大效应对SET的影响第42-60页
   ·引言第42页
   ·相关研究的不足第42-43页
   ·TCAD混合模拟第43-48页
     ·模拟结构设计第43-44页
     ·模拟设置第44-45页
     ·模拟结果与分析第45-48页
   ·重离子辐照试验第48-58页
     ·试验芯片设计第48-52页
     ·试验设置第52-54页
     ·试验结果与分析第54-58页
   ·本章小结第58-60页
第三章 SET与阱结构的相关性第60-78页
   ·引言第60页
   ·相关研究的不足第60-61页
   ·TCAD混合模拟第61-70页
     ·模拟结构设计第61-62页
     ·模拟设置第62-63页
     ·模拟结果与分析第63-70页
   ·重离子辐照试验第70-77页
     ·试验芯片设计第70-71页
     ·试验设置第71页
     ·试验结果与分析第71-77页
   ·本章小结第77-78页
第四章 SET与电路布局的相关性第78-96页
   ·引言第78页
   ·相关研究的不足第78-79页
   ·重离子辐照试验第79-84页
     ·试验芯片设计第79-80页
     ·试验设置第80-81页
     ·试验结果与分析第81-84页
   ·TCAD混合模拟第84-94页
     ·模拟结构设计第84-85页
     ·模拟设置第85-86页
     ·模拟结果与分析第86-94页
   ·本章小结第94-96页
第五章 触发器内部SET与频率的相关性第96-108页
   ·引言第96页
   ·相关研究的不足第96页
   ·TCAD混合模拟第96-100页
     ·模拟结构设计第96-97页
     ·模拟设置第97页
     ·模拟结果与分析第97-100页
   ·重离子辐射试验第100-106页
     ·试验芯片设计第100页
     ·试验设置第100-101页
     ·试验结果与分析第101-106页
   ·本章小结第106-108页
第六章 结论与展望第108-112页
   ·本文所做的工作第108-109页
   ·下一步的研究工作第109-112页
致谢第112-114页
参考文献第114-128页
作者在学期间取得的学术成果第128-129页

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