MgZnO薄膜的制备及特性研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-13页 |
| 符号表 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-47页 |
| §1.1 概述 | 第14-25页 |
| ·ZnO材料的性质 | 第15-17页 |
| ·ZnO材料的应用 | 第17-20页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第20-25页 |
| §1.2 MgZnO薄膜的研究进展 | 第25-37页 |
| ·单层MgZnO薄膜的研究进展 | 第25-29页 |
| ·ZnO／MgZnO超晶格和量子阱的研究进展 | 第29-37页 |
| §1.3 研究课题的选取 | 第37-40页 |
| 本章参考文献 | 第40-47页 |
| 第二章 样品的制备及测试 | 第47-65页 |
| §2.1 MgZnO薄膜的制备 | 第47-54页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第47-48页 |
| ·溅射基本原理 | 第48-52页 |
| ·MgZnO陶瓷靶的制备 | 第52-53页 |
| ·衬底的选择与处理 | 第53页 |
| ·样品的制备 | 第53-54页 |
| §2.2 测试方法介绍 | 第54-64页 |
| ·结构和成分测试分析 | 第54-56页 |
| ·表面形貌的观察 | 第56-57页 |
| ·光学性质的测量 | 第57-64页 |
| 本章参考文献 | 第64-65页 |
| 第三章 MgZnO薄膜结构特性研究 | 第65-81页 |
| §3.1 MgZnO薄膜的晶格结构 | 第65-72页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第65-70页 |
| ·拉曼(Raman)散射 | 第70-71页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第71-72页 |
| §3.2 MgZnO薄膜的表面形貌及组分分析 | 第72-80页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第72-77页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第77-78页 |
| ·卢瑟福背散射(RBS) | 第78-80页 |
| 本章参考文献 | 第80-81页 |
| 第四章 MgZnO薄膜光学特性研究 | 第81-94页 |
| §4.1 MgZnO薄膜的透射谱研究 | 第81-83页 |
| §4.2 吸收系数和光学带隙 | 第83-85页 |
| §4.3 光学带隙的简化计算 | 第85-86页 |
| §4.4 MgZnO薄膜的折射率 | 第86-91页 |
| ·椭圆偏振法测量薄膜折射率 | 第86-88页 |
| ·由透射谱计算获得薄膜折射率 | 第88-91页 |
| §4.5 MgZnO薄膜的光致发光谱(PL) | 第91-93页 |
| 本章参考文献 | 第93-94页 |
| 第五章 制备条件对MgZnO薄膜性质的影响 | 第94-104页 |
| §5.1 溅射功率对薄膜性质的影响 | 第94-96页 |
| §5.2 生长时间对薄膜性质的影响 | 第96-97页 |
| §5.3 氧气分压对薄膜性质的影响 | 第97-99页 |
| §5.4 退火温度对薄膜性质的影响 | 第99-103页 |
| 本章参考文献 | 第103-104页 |
| 第六章 结论 | 第104-106页 |
| §6.1 MgZnO薄膜的制备及测试 | 第104页 |
| §6.2 MgZnO薄膜的结构特性 | 第104-105页 |
| §6.3 MgZnO薄膜的光学特性 | 第105页 |
| §6.4 制备条件对MgZnO薄膜性质的影响 | 第105-106页 |
| 博士期间发表论文情况 | 第106-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第111页 |
