| 中文摘要 | 第1-12页 |
| 英文摘要 | 第12-16页 |
| 符号说明 | 第16-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-31页 |
| 第二章 平面光波导理论简介 | 第31-41页 |
| ·光线在介质界面的反射和折射 | 第32-33页 |
| ·平面光波导理论 | 第33-39页 |
| ·平面光波导的线光学理论 | 第33-36页 |
| ·平面光波导的电磁场理论 | 第36-39页 |
| ·光波导中的归一化参量 | 第39-41页 |
| 第三章 实验方法 | 第41-67页 |
| ·离子注入技术 | 第42-45页 |
| ·离子注入技术简介 | 第42-43页 |
| ·加速器工作原理简介 | 第43-45页 |
| ·卢瑟福背散射／沟道分析技术 | 第45-48页 |
| ·背散射分析技术简介 | 第45页 |
| ·卢瑟福背散射分析原理 | 第45-46页 |
| ·背散射分析实验 | 第46-47页 |
| ·沟道分析技术 | 第47页 |
| ·背散射分析的优点 | 第47-48页 |
| ·波导光的激励方法 | 第48-52页 |
| ·棱镜耦合法 | 第48-51页 |
| ·端面耦合法 | 第51-52页 |
| ·光波导中传输损耗的测量 | 第52-56页 |
| ·波导光的传输损耗与散射 | 第52-53页 |
| ·光波导传输损耗的测量 | 第53-56页 |
| ·平面波导折射率分布拟合方法—反射计算法(RCM) | 第56-60页 |
| ·RCM的基本原理 | 第56-58页 |
| ·折射率分布的确定 | 第58-60页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第60-67页 |
| ·射频磁控溅射技术简介 | 第60页 |
| ·射频磁控溅射工作原理简介 | 第60-63页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第63-67页 |
| 第四章 高能氟离子注入铌酸锂晶体的平面光波导 | 第67-77页 |
| ·实验过程 | 第68-69页 |
| ·结果与分析 | 第69-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 高能氧离子与氟离子注入钽酸锂晶体的平面光波导 | 第77-93页 |
| ·氧离子注入钽酸锂晶体的平面光波导 | 第78-85页 |
| ·实验过程 | 第78页 |
| ·结果与分析 | 第78-85页 |
| ·氟离子注入钽酸锂晶体的平面光波导 | 第85-91页 |
| ·实验过程 | 第85页 |
| ·结果与分析 | 第85-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 第六章 重离子注入新型钨酸盐晶体的平面光波导 | 第93-109页 |
| ·重离子注入钨酸锶晶体的平面光波导 | 第94-99页 |
| ·实验过程 | 第94页 |
| ·结果与分析 | 第94-99页 |
| ·重离子注入钨酸钡晶体的平面光波导 | 第99-103页 |
| ·实验过程 | 第99页 |
| ·结果与分析 | 第99-103页 |
| ·氧离子注入掺镱的钨酸钆钠晶体的平面光波导 | 第103-107页 |
| ·实验过程 | 第103页 |
| ·结果与分析 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 第七章 多能量氦离子注入铌酸锶钡钾钠晶体的平面光波导 | 第109-119页 |
| ·实验过程 | 第110页 |
| ·结果和分析 | 第110-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 第八章 多能量氧离子注入掺钕的钒酸钆与掺钕的钒酸镥晶体的平面光波导 | 第119-129页 |
| ·实验过程 | 第120页 |
| ·结果和讨论 | 第120-127页 |
| ·本章小结 | 第127-129页 |
| 第九章 射频磁控溅射法制备氧化锌光波导 | 第129-145页 |
| ·实验的准备 | 第130页 |
| ·实验过程 | 第130-131页 |
| ·结果和讨论 | 第131-142页 |
| ·本章小结 | 第142-145页 |
| 第十章 总结 | 第145-150页 |
| ·主要结果 | 第146-149页 |
| ·主要创新点 | 第149-150页 |
| 附图表目录 | 第150-154页 |
| 攻读博士学位期间发表和投稿的论文以及获得的奖励 | 第154-157页 |
| 致谢 | 第157-159页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第159页 |
