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GaN上外延GaN的生长界面及其处理方法研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-15页
   ·GaN 材料的特点和优势第9-10页
   ·AlGaN/GaN 异质结材料的研究现状第10-11页
   ·GaN 同质外延中的再生长界面污染和杂质去除第11-13页
   ·本文研究内容及安排第13-15页
第二章 GaN 的生长系统及表征技术第15-27页
   ·MOCVD 系统第16-19页
   ·材料表征与测试技术第19-27页
     ·原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)第19-20页
     ·X 射线衍射技术(X Ray Diffraction,XRD)第20-22页
     ·电容-电压测试(Capacitance-Voltage,C-V)第22-24页
     ·范德堡霍尔测试(Van der Pauw Hall)第24-25页
     ·二次离子质谱(Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS)第25页
     ·光致发光谱(photoluminescence, PL)第25-27页
第三章 GaN 同质外延再生长界面杂质去除方法研究第27-37页
   ·研究背景第27-28页
   ·基于原位热分解的再生长界面杂质去除方法研究第28-33页
     ·再生长界面的杂质分析第29-32页
     ·背景载流子浓度分析第32-33页
   ·GaN 基板上外延的 AlGaN/GaN 异质结材料质量及电特性讨论第33-36页
     ·表面形貌分析第33-34页
     ·结晶质量分析第34-35页
     ·电特性分析第35-36页
   ·本章小结第36-37页
第四章 GaN 基板上 AlGaN 势垒层生长研究第37-49页
   ·研究背景第37-38页
   ·GaN 基板上外延势垒层的 AlGaN/GaN 异质结材料特性第38-48页
     ·GaN 基板上外延势垒层的 AlGaN/GaN 异质结材料的表面形貌分析第38-40页
     ·GaN 基板上直接外延势垒层的 AlGaN/GaN 异质结电特性分析第40-47页
     ·GaN 基板上氮化处理结合补偿生长的的 AlGaN/GaN 异质结的电特性分析第47-48页
   ·本章小结第48-49页
第五章 结束语第49-51页
致谢第51-53页
参考文献第53-58页
攻读硕士期间的研究成果和参加的科研项目第58-59页

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