| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·选题的意义 | 第10页 |
| ·活塞表面常用的防护方法 | 第10-12页 |
| ·阳极氧化技术 | 第10-11页 |
| ·电镀铬 | 第11-12页 |
| ·表面喷涂 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化现象及机理 | 第13-16页 |
| ·微弧氧化的现象 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化机理 | 第14-16页 |
| ·本文主要研究内容及技术路线 | 第16-18页 |
| 第2章 微弧氧化试验设备及试验方案 | 第18-28页 |
| ·微弧氧化设备及仪器介绍 | 第18-22页 |
| ·微弧氧化试验装置 | 第18-19页 |
| ·脉冲电源 | 第19页 |
| ·电能表 | 第19-20页 |
| ·厚度检测 | 第20页 |
| ·硬度检测 | 第20页 |
| ·粗糙度的测定 | 第20-21页 |
| ·KT-1颗粒计数器 | 第21-22页 |
| ·行星式球磨机 | 第22页 |
| ·试样材料选取及试验前试样的表面处理 | 第22-23页 |
| ·试样材料的选取 | 第22-23页 |
| ·试验前试样的表面处理 | 第23页 |
| ·微弧氧化电解液组份选取 | 第23-25页 |
| ·主成膜剂的选择 | 第23-24页 |
| ·电解液PH值调节组份 | 第24页 |
| ·电解液性能改善成份 | 第24-25页 |
| ·微弧氧化试验正交设计 | 第25-28页 |
| 第3章 微弧氧化电解液及电参数的优化分析 | 第28-60页 |
| ·微弧氧化电解液的优化 | 第28-39页 |
| ·电解液组份对成膜厚度的影响 | 第28-30页 |
| ·电解液组份对成膜硬度的影响 | 第30-32页 |
| ·电解液组份对膜层粗糙度的影响 | 第32-34页 |
| ·电解液组份对能耗的影响 | 第34-36页 |
| ·微弧氧化电解液的优化结果 | 第36-39页 |
| 小结 | 第39页 |
| ·频率的优化 | 第39-45页 |
| ·膜层厚度与频率的关系 | 第40-41页 |
| ·单位能耗与频率的关系 | 第41-42页 |
| ·膜层粗糙度与频率的关系 | 第42-43页 |
| ·膜层硬度与频率的关系 | 第43-44页 |
| 小结 | 第44-45页 |
| ·占空比的优化 | 第45-50页 |
| ·占空比对膜层厚度的影响 | 第45-46页 |
| ·占空比对膜层粗糙度的影响 | 第46-47页 |
| ·占空比对单位能耗的影响 | 第47-48页 |
| ·占空比对膜层硬度的影响 | 第48-49页 |
| 小结 | 第49-50页 |
| ·微弧氧化时间的优化 | 第50-58页 |
| ·微弧氧化时间对膜层厚度的影响 | 第50-52页 |
| ·微弧氧化时间对膜层粗糙度的影响 | 第52-53页 |
| ·能耗与微弧氧化时间的关系 | 第53-55页 |
| ·膜层增重与微弧氧化时间的关系 | 第55-58页 |
| 小结 | 第58页 |
| 本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 电解液中添加M_oS_2微纳米颗粒和刚玉微纳米颗粒后对成膜的影响 | 第60-68页 |
| ·电解液中添加二硫化钼微纳米颗粒对成膜的影响 | 第60-63页 |
| ·二硫化钼微纳米颗粒的制备及检测 | 第60-61页 |
| ·电解液中加入二硫化钼微纳米颗粒后对成膜效果的影响 | 第61-63页 |
| ·电解液中加入刚玉微纳米颗粒后对成膜的影响 | 第63-67页 |
| ·刚玉微纳米颗粒的制备与检测 | 第63-64页 |
| ·电解液中加入刚玉微纳米颗粒后对能耗和成膜效果的影响 | 第64-67页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 第5章 微弧氧化膜层性能测试 | 第68-84页 |
| ·微弧氧化膜层绝热性能测试 | 第68-70页 |
| ·微弧氧化膜层抗热冲击性能检测 | 第70-72页 |
| ·微弧氧化膜层的耐磨性能检测 | 第72-83页 |
| ·摩擦磨损试验设备介绍 | 第72-73页 |
| ·实验材料及方法 | 第73-74页 |
| ·摩擦磨损试验结果及分析 | 第74-83页 |
| 本章小结 | 第83-84页 |
| 结论及展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
