摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
专用术语注释表 | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 氮化铜(Cu_3N)的结构和性能 | 第9-11页 |
1.3 Cu_3N 的实验制备 | 第11-12页 |
1.3.1 Cu_3N 的实验制备方法 | 第11页 |
1.3.2 磁控溅射制备的原理 | 第11-12页 |
1.4 Cu_3N 的应用 | 第12-13页 |
1.4.1 光存储 | 第12页 |
1.4.2 电子元器件 | 第12页 |
1.4.3 太阳能电池 | 第12页 |
1.4.4 其他应用 | 第12-13页 |
1.5 Cu_3N 及其掺杂研究进展 | 第13-15页 |
1.5.1 实验研究进展 | 第13-14页 |
1.5.2 理论研究进展 | 第14-15页 |
1.6 本论文的研究内容 | 第15-17页 |
第二章 理论基础和计算软件介绍 | 第17-23页 |
2.1 密度泛函理论 | 第17-19页 |
2.1.1 Hohenberg-Kohn 定理 | 第17-18页 |
2.1.2 Kohn-Sham 方程 | 第18-19页 |
2.2 交换相关势能 | 第19-20页 |
2.2.1 局域密度近似(LDA) | 第19-20页 |
2.2.2 广义梯度近似(GGA) | 第20页 |
2.3 全势线性缀加平面波法(FLAPW) | 第20页 |
2.4 计算软件介绍 | 第20-22页 |
2.4.1 WIEN2k 软件介绍 | 第20-21页 |
2.4.2 XCrySDen 程序介绍 | 第21-22页 |
2.5 本章小结 | 第22-23页 |
第三章 总体计算参数设置和结构优化 | 第23-27页 |
3.1 总体计算参数的设置 | 第23-24页 |
3.2 结构优化 | 第24-26页 |
3.2.1 Cu_3N 结构优化结果 | 第24-25页 |
3.2.2 Cu_3NM 结构优化结果 | 第25-26页 |
3.3 本章小结 | 第26-27页 |
第四章 Cu_3N 和 Cu_3NM 的电学性质 | 第27-37页 |
4.1 态密度 | 第27-30页 |
4.1.1 态密度的概念 | 第27页 |
4.1.2 态密度计算参数及步骤 | 第27-28页 |
4.1.3 态密度计算结果分析 | 第28-30页 |
4.2 能带结构 | 第30-33页 |
4.2.1 能带结构的概念 | 第30页 |
4.2.2 能带结构计算参数设置及步骤 | 第30-31页 |
4.2.3 能带结构计算结果分析 | 第31-33页 |
4.3 电荷密度 | 第33-35页 |
4.3.1 电荷密度计算参数及步骤 | 第33-34页 |
4.3.2 Cu_3N 的电荷密度分析 | 第34页 |
4.3.3 Cu_3N 和 Cu_3NM 的电荷密度对比分析 | 第34-35页 |
4.4 本章小结 | 第35-37页 |
第五章 Cu_3N 和 Cu_3NM 的力学性质和光学性质 | 第37-45页 |
5.1 结合能 | 第37-38页 |
5.1.1 结合能的概念 | 第37页 |
5.1.2 Cu_3N 和 Cu_3NM 结合能计算结果分析 | 第37-38页 |
5.2 弹性系数及相关参量 | 第38-41页 |
5.2.1 弹性系数及相关参量的概念 | 第38-39页 |
5.2.2 弹性系数及相关参量的计算步骤 | 第39-40页 |
5.2.3 Cu_3N 及 Cu_3NM 弹性性质计算结果对比分析 | 第40-41页 |
5.3 光学复介电函数 | 第41-44页 |
5.3.1 光学复介电函数的概念 | 第41-42页 |
5.3.2 光学复介电函数计算结果分析 | 第42-44页 |
5.4 本章小结 | 第44-45页 |
第六章 结论与展望 | 第45-47页 |
6.1 主要结论 | 第45-46页 |
6.2 需要进一步研究的问题 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-50页 |
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第50-51页 |
附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第51-52页 |
附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第52-53页 |
致谢 | 第53页 |