一种新型半导体制造先进过程控制：双近似逆系统反馈控制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 1 绪论 | 第13-35页 |
| ·半导体制造 | 第13-20页 |
| ·半导体制造的主要内容 | 第13-18页 |
| ·半导体制造中工艺过程控制 | 第18-20页 |
| ·先进过程控制 | 第20-31页 |
| ·常用的先进过程控制技术 | 第21-24页 |
| ·半导体制造中的先进过程控制 | 第24-31页 |
| ·本课题的提出与主要研究内容 | 第31-35页 |
| ·半导体制造中对先进过程控制新的要求 | 第31-33页 |
| ·研究意义与主要特点 | 第33-34页 |
| ·主要研究内容和方法 | 第34-35页 |
| 2 双近似逆系统反馈控制的基本原理与实现 | 第35-45页 |
| ·双近似逆系统反馈控制的基本原理 | 第35-36页 |
| ·双近似逆系统反馈控制的实现 | 第36-44页 |
| ·常用近似逆系统及其选择 | 第36-41页 |
| ·常用控制律及其选择 | 第41-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 3 双近似逆系统反馈控制性能的理论分析与证明 | 第45-51页 |
| ·双近似逆系统反馈控制的稳定性分析 | 第45-49页 |
| ·相关数学引理 | 第45-47页 |
| ·双近似逆系统反馈控制渐进稳定的充分条件 | 第47-49页 |
| ·双近似逆系统反馈控制的动态性能分析 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 仿真系统的设计与实现 | 第51-60页 |
| ·平台选择与设计原则 | 第51-52页 |
| ·仿真系统的模块设计 | 第52-53页 |
| ·虚拟设备设计 | 第53-59页 |
| ·虚拟快速热处理设备 | 第53-54页 |
| ·虚拟离子注入设备 | 第54-56页 |
| ·虚拟化学机械平坦化设备 | 第56-57页 |
| ·控制回路的构建 | 第57-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 5 双近似逆系统反馈控制在半导体制造中的仿真分析 | 第60-76页 |
| ·仿真分析的试验条件 | 第60页 |
| ·基于虚拟快速热处理设备的仿真分析试验 | 第60-70页 |
| ·基于虚拟离子注入设备的仿真分析试验 | 第70-73页 |
| ·基于虚拟化学机械平坦化设备的仿真分析试验 | 第73-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 总结与展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 附录一 主要代码 | 第81-148页 |
| 致谢 | 第148-149页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第149页 |
