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SiC/Si薄膜的CVD制备研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-21页
   ·SIC 材料概述第9-12页
   ·SIC 的性质第12-14页
   ·SIC 的应用第14-16页
   ·SIC 的研究现状第16-19页
   ·论文的选题依据和研究目标第19-21页
第二章 实验设备及其原理第21-29页
   ·CVD 实验设备介绍第21-23页
   ·化学气相沉积法简介第23-25页
   ·实验方法第25-27页
   ·SIC 薄膜的表征方法第27-29页
第三章 SIC 薄膜气相生长研究第29-49页
   ·SIC 薄膜的传统“二步工艺”生长第29-39页
   ·改进的“二步工艺”生长SIC 薄膜第39-48页
   ·本章小结第48-49页
第四章 SIC 薄膜的VLS 生长研究第49-55页
   ·VLS 工艺简介第49页
   ·SIC 薄膜的VLS 生长工艺研究第49-54页
   ·本章小结第54-55页
第五章 结论第55-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-61页
攻硕期间取得的研究成果第61-62页

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