集成电路晶圆的电子显微镜图像重建研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 集成电路光刻制造工艺 | 第13-16页 |
| 1.3 光刻工艺现状和发展趋势 | 第16-17页 |
| 1.4 集成电路光刻图形缺陷 | 第17-20页 |
| 1.4.1 光刻图形缺陷的来源 | 第17-18页 |
| 1.4.2 光刻图形缺陷的分类 | 第18-19页 |
| 1.4.3 光刻图形缺陷检查 | 第19-20页 |
| 1.5 SEM图像简介 | 第20-23页 |
| 1.5.1 SEM图像的产生 | 第20-21页 |
| 1.5.2 SEM图像的类型 | 第21-23页 |
| 1.5.3 SEM图像的重建 | 第23页 |
| 1.6 论文的研究内容、创新点和结构 | 第23-24页 |
| 1.7 本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 图像预处理 | 第25-37页 |
| 2.1 直方图处理 | 第25页 |
| 2.2 图像噪声的消除 | 第25-32页 |
| 2.2.1 噪声分类 | 第25-29页 |
| 2.2.2 均值滤波 | 第29页 |
| 2.2.3 中值滤波 | 第29-30页 |
| 2.2.4 高斯滤波 | 第30-31页 |
| 2.2.5 双边滤波 | 第31-32页 |
| 2.3 阈值选取 | 第32-35页 |
| 2.3.1 双峰法 | 第32-33页 |
| 2.3.2 p参数法 | 第33页 |
| 2.3.3 迭代法 | 第33-34页 |
| 2.3.4 最大类间方差法(OTSU法) | 第34-35页 |
| 2.4 OpenCV简介 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 SEM图像重建研究 | 第37-53页 |
| 3.1 Canny算子 | 第37-40页 |
| 3.2 基于边缘提取的SEM图像重建 | 第40-46页 |
| 3.3 基于边缘梯度信息的SEM图像重建 | 第46-50页 |
| 3.4 算法比较 | 第50-52页 |
| 3.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 实验结果及分析改进 | 第53-61页 |
| 4.1 相同类型不同分辨率的图像 | 第53-58页 |
| 4.1.1 480*480像素点图像 | 第53-54页 |
| 4.1.2 160*160像素点图像 | 第54-56页 |
| 4.1.3 120*120像素点图像 | 第56-58页 |
| 4.2 相同分辨率不同类型的图像 | 第58-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 总结与展望 | 第61-62页 |
| 5.1 本文总结 | 第61页 |
| 5.2 未来展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 作者简介 | 第65页 |
