摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
1 绪论 | 第8-20页 |
·课题研究的背景及意义 | 第8-10页 |
·课题研究背景 | 第8-9页 |
·课题研究目的及意义 | 第9-10页 |
·蓝宝石的应用 | 第10-12页 |
·蓝宝石在光学中的应用 | 第11-12页 |
·蓝宝石在军用光电设备中的应用 | 第12页 |
·纳米结构 | 第12-13页 |
·国内外研究现状 | 第13-18页 |
·纳米技术国内外现状 | 第13页 |
·离子束刻蚀后纳米结构国内外现状 | 第13-18页 |
·本课题主要研究内容及工作安排 | 第18-20页 |
·本课题研究内容 | 第18页 |
·工作安排 | 第18-20页 |
2 低能离子束刻蚀蓝宝石实验方案及检测设备 | 第20-35页 |
·技术路线 | 第20-21页 |
·方案设计 | 第21-22页 |
·低能离子束刻蚀 | 第21页 |
·刻蚀结果的测量及表征 | 第21-22页 |
·低能离子束刻蚀技术 | 第22-24页 |
·低能离子束刻蚀形成纳米结构的机理 | 第24-25页 |
·离子束刻蚀理论模型 | 第24页 |
·Edwards-Wilkinson(EW)模型 | 第24页 |
·Kardar-Parisi-Zhang(KPZ)模型 | 第24页 |
·Kuramoto-Sivashinsky(KS)模型 | 第24-25页 |
·Bradley-Harper(BH)模型 | 第25页 |
·测量设备 | 第25-33页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第25-29页 |
·Taylor Sure CCI2000非接触式表面测量仪(白光干涉仪) | 第29-32页 |
·分光光度计 | 第32-33页 |
·小结 | 第33-35页 |
3 低能离子束刻蚀蓝宝石纳米结构研究 | 第35-39页 |
·低能离子束刻蚀蓝宝石纳米结构研究方案 | 第35页 |
·蓝宝石样片清洗 | 第35-36页 |
·蓝宝石刻蚀工艺参数及流程 | 第36-38页 |
·工艺参数 | 第36-37页 |
·工艺流程 | 第37-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
4 不同离子束参数刻蚀结果分析 | 第39-51页 |
·刻蚀后蓝宝石样品粗糙度分析 | 第39-41页 |
·不同能量下刻蚀后蓝宝石粗糙度分析 | 第39-40页 |
·增加刻蚀时间蓝宝石粗糙度分析 | 第40页 |
·改变能量及离子束束流后蓝宝石粗糙度分析 | 第40-41页 |
·刻蚀后蓝宝石样品透射率分析 | 第41-45页 |
·不同能量下刻蚀后蓝宝石透射率分析 | 第41-42页 |
·增加刻蚀时间蓝宝石透射率分析 | 第42-43页 |
·改变能量及离子束束流后蓝宝石透射率分析 | 第43-45页 |
·刻蚀后蓝宝石样品表面纳米结构分析 | 第45-49页 |
·不同能量下刻蚀后表面纳米结构分析 | 第45-47页 |
·增加刻蚀时间后表面纳米结构分析 | 第47-48页 |
·改变能量及离子束束流后表面纳米结构分析 | 第48-49页 |
·实验数据分析 | 第49页 |
·小结 | 第49-51页 |
5 结论 | 第51-54页 |
·结论 | 第51-52页 |
·展望 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-57页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-60页 |