| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·ZnO材料 | 第12-14页 |
| ·ZnO材料的基本结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第13-14页 |
| ·稀土离子的发光 | 第14-16页 |
| ·上转换发光 | 第16-20页 |
| ·上转换的发光材料 | 第16-17页 |
| ·上转换发光机制 | 第17-20页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 ZnO薄膜的制备方法 | 第22-30页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第23页 |
| ·分子束求外延(MBE) | 第23-24页 |
| ·济胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第24页 |
| ·有机金属化学气相沉积(MOCVD) | 第24-25页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第25页 |
| ·磁控溅射技术(Magnetron sputtering) | 第25-30页 |
| ·磁控溅射原理 | 第26-28页 |
| ·磁控溅射技术的特点 | 第28-30页 |
| 第3章 Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂ZnO薄膜的表征手段 | 第30-42页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第30-32页 |
| ·X射线衍射仪 | 第30页 |
| ·工作原理 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射的应用 | 第31-32页 |
| ·棱镜耦合法 | 第32-35页 |
| ·Metricon Model 2010棱镜耦合仪 | 第33页 |
| ·棱镜耦合仪的工作原理 | 第33-35页 |
| ·棱镜耦合仪的特点及应用 | 第35页 |
| ·卢瑟福背散射分析技术(RBS) | 第35-42页 |
| ·卢瑟福背散射分析技术的简介 | 第35页 |
| ·卢瑟福背散射(RBS)分析原理 | 第35-40页 |
| ·背散射实验过程 | 第40-41页 |
| ·背散射分析技术的应用 | 第41-42页 |
| 第4章 Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂的ZnO的制备及性能研究 | 第42-58页 |
| ·Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂的ZnO的制备 | 第42-46页 |
| ·FJL560型高真空多功能磁控与离子束联合溅射镀膜系统 | 第42-43页 |
| ·主要实验材料 | 第43页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第43-45页 |
| ·制备Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂ZnO薄膜的工艺参数 | 第45页 |
| ·样品的测量 | 第45-46页 |
| ·基底温度对Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂的氧化锌薄膜的影响 | 第46-50页 |
| ·XRD分析 | 第46-47页 |
| ·棱镜耦合分析 | 第47-48页 |
| ·RBS分析 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50页 |
| ·氧氩比对Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂的氧化锌薄膜的影响 | 第50-54页 |
| ·XRD分析 | 第51-52页 |
| ·棱镜耦合分析 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·不同基底材料对Er~(3+)/Yb~(3+)掺杂的氧化锌薄膜的影响 | 第54-58页 |
| ·XRD分析 | 第55-56页 |
| ·棱镜耦合分析 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-61页 |
| ·总结 | 第58-59页 |
| ·主要创新点 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 后记 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第66页 |
