| 原创性声明 | 第1页 |
| 关于学位论文使用授权的声明 | 第4-8页 |
| 摘要 | 第8-11页 |
| Abstract | 第11-15页 |
| 缩略词注释表 | 第15-17页 |
| 第一章 微机电系统及其微细加工技术 | 第17-48页 |
| §1.1 微机电系统的发展及应用 | 第17-27页 |
| §1.1.1 微机电系统的概念 | 第17-19页 |
| §1.1.2 微机电系统的发展及国内外研究现状 | 第19-23页 |
| §1.1.3 微机电系统的主要研究内容 | 第23-24页 |
| §1.1.4 微机电系统的应用 | 第24-27页 |
| §1.2 微细加工技术 | 第27-45页 |
| §1.2.1 硅微机械加工 | 第28-30页 |
| §1.2.2 LIGA工艺 | 第30-35页 |
| §1.2.3 IH工艺 | 第35-40页 |
| §1.2.4 EFAB工艺 | 第40-41页 |
| §1.2.5 CELT工艺 | 第41-42页 |
| §1.2.6 3D电化学微加工工艺 | 第42页 |
| §1.2.7 硅膜工艺 | 第42-43页 |
| §1.2.8 结论 | 第43-45页 |
| §1.3 本论文研究内容 | 第45-48页 |
| §1.3.1 论文工作的目的和意义 | 第45-46页 |
| §1.3.2 论文的主要工作与技术创新点 | 第46页 |
| §1.3.3 论文的内容安排 | 第46-48页 |
| 第二章 电子束液态曝光技术 | 第48-62页 |
| §2.1 电子束曝光技术发展历史 | 第48-51页 |
| §2.1.1 国外发展状况 | 第48-49页 |
| §2.1.2 国内发展状况 | 第49-51页 |
| §2.2 电子束曝光技术 | 第51-55页 |
| §2.2.1 电子束曝光机的组成 | 第51页 |
| §2.2.2 电子束曝光机的曝光原理 | 第51-53页 |
| §2.2.3 电子束曝光的方式 | 第53-54页 |
| §2.2.4 电子束曝光的特点 | 第54-55页 |
| §2.2.5 电子束曝光技术的应用 | 第55页 |
| §2.3 电子束液态曝光技术 | 第55-62页 |
| §2.3.1 电子束液态曝光技术 | 第55-56页 |
| §2.3.2 实现方法的可行性分析 | 第56-62页 |
| 第三章 电子束液态曝光的真空环境研究 | 第62-88页 |
| §3.1 真空的基本概念 | 第62-69页 |
| §3.1.1 真空的定义 | 第62-63页 |
| §3.1.2 真空的表示方法 | 第63页 |
| §3.1.3 真空的特点 | 第63-65页 |
| §3.1.4 真空区域的划分 | 第65-66页 |
| §3.1.5 真空技术的应用 | 第66-67页 |
| §3.1.6 真空系统的获得和测量 | 第67-69页 |
| §3.2 真空中电子的平均自由程研究 | 第69-80页 |
| §3.2.1 分子的平均自由程计算 | 第70-71页 |
| §3.2.2 以同一速度运动的分子束之间碰撞频率的计算 | 第71-72页 |
| §3.2.3 平均自由程与速度的关系研究 | 第72-75页 |
| §3.2.4 高速电子的平均自由程计算 | 第75-76页 |
| §3.2.5 自由程长度的分布率研究 | 第76-79页 |
| §3.2.6 SDS-Ⅱ型曝光机的真空度需求研究 | 第79-80页 |
| §3.3 液体的真空气化研究 | 第80-87页 |
| §3.3.1 液体气化影响因素的研究 | 第80-83页 |
| §3.3.2 液态抗蚀剂的选取方法 | 第83-85页 |
| §3.3.3 液态抗蚀剂的真空气化实验 | 第85-87页 |
| §3.4 小结 | 第87-88页 |
| 第四章 抗蚀剂曝光反应机理及曝光能量、剂量需求研究 | 第88-107页 |
| §4.1 电子束辐射固化机理研究 | 第88-97页 |
| §4.1.1 电子束辐射固化的概念 | 第89-90页 |
| §4.1.2 电子束辐射固化机理研究 | 第90-97页 |
| §4.2 电子束辐射固化能量和剂量需求研究 | 第97-102页 |
| §4.2.1 电子束曝光能量需求研究 | 第98-101页 |
| §4.2.2 电子束曝光剂量需求研究 | 第101-102页 |
| §4.2.3 结论 | 第102页 |
| §4.3 电子束液态曝光实验 | 第102-106页 |
| §4.3.1 实验部分 | 第102-103页 |
| §4.3.2 实验结果与分析 | 第103-105页 |
| §4.3.3 实验结论 | 第105-106页 |
| §4.4 小结 | 第106-107页 |
| 第五章 电子束固化厚度影响因素的研究 | 第107-149页 |
| §5.1 流体的基本知识 | 第107-108页 |
| §5.1.1 流体的黏性 | 第107-108页 |
| §5.1.2 静止流体的平衡微分方程 | 第108页 |
| §5.1.3 达朗贝尔原理 | 第108页 |
| §5.2 甩胶台转速、液体黏度与涂层厚度之间的关系研究 | 第108-125页 |
| §5.2.1 甩胶原理研究 | 第109-120页 |
| §5.2.2 胶层厚度与转速、黏度之间的关系研究 | 第120-125页 |
| §5.3 固化深度与电子束能量、剂量之间的关系研究 | 第125-148页 |
| §5.3.1 Monte Carlo模拟法计算穿透深度和能量吸收密度 | 第126-129页 |
| §5.3.2 解析法计算穿透深度和能量吸收密度 | 第129-135页 |
| §5.3.3 模拟计算和实验结果 | 第135-148页 |
| §5.4 小结 | 第148-149页 |
| 第六章 结论 | 第149-153页 |
| 参考文献 | 第153-168页 |
| 致谢 | 第168-169页 |
| 攻读博士学位期间完成的论文及参加的科研工作 | 第169-171页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第171页 |
