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纳米硅和氧化锌纳米结构的制备及应用研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
第一章 半导体纳米结构及应用综述第10-22页
   ·引言第10-11页
   ·纳米硅的制备和应用第11-15页
   ·纳米Z_NO材料的制备和应用第15-18页
   ·本论文的工作第18-19页
 参考文献第19-22页
第二章 纳米硅薄膜的制备及其性质表征第22-40页
   ·引言第22页
   ·电化学腐蚀方法第22-26页
   ·单晶纳米硅薄膜的实验制备和表征第26-32页
   ·单晶纳米硅薄膜制备参数选择第32-38页
   ·小结第38页
 参考文献第38-40页
第三章 纳米硅薄膜在微波IC中的应用第40-49页
   ·引言第40-41页
   ·微波损耗理论第41-43页
   ·纳米硅薄膜电阻率的测量第43-44页
   ·纳米硅薄膜上制备低损耗CPW第44-46页
   ·小结第46页
 参考文献第46-49页
第四章 纳米硅在场发射中的应用第49-59页
   ·引言第49-50页
   ·场发射理论第50-52页
   ·电子场发射实验第52页
   ·实验结果讨论第52-57页
   ·小结第57-58页
 参考文献第58-59页
第五章 氧化锌纳米结构的制备以及在场发射中的应用第59-74页
   ·引言第59-60页
   ·Z_NO纳米结构的实验制备第60-62页
   ·制备条件对氧化锌纳米结构的影响第62-68页
   ·生长模式的讨论第68-70页
   ·Z_NO纳米结构的场发射特性第70-71页
   ·小结第71-72页
 参考文献第72-74页
第六章 结论第74-76页
附录1 硕士期间发表的论文第76页
附录2 申请的专利第76-77页
致谢第77页

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