摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-15页 |
1.1 课题的研究背景、研究意义 | 第10-11页 |
1.1.1 研究背景 | 第10页 |
1.1.2 研究意义 | 第10-11页 |
1.2 国内外的研究状况 | 第11-14页 |
1.2.1 热处理行业现状 | 第11页 |
1.2.2 传统多用炉的炉温控制的主要技术问题 | 第11-12页 |
1.2.3 多用炉炉温控制的研究现状 | 第12-14页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第14页 |
1.4 小结 | 第14-15页 |
第二章 系统结构和功能介绍 | 第15-22页 |
2.1 多用炉生产线 | 第15-16页 |
2.2 可控气氛多用炉的组成 | 第16-21页 |
2.2.1 结构概述 | 第16页 |
2.2.2 加热室 | 第16-17页 |
2.2.3 淬火室 | 第17-18页 |
2.2.4 传送机构 | 第18-19页 |
2.2.5 气氛面板 | 第19-21页 |
2.3 本章小结 | 第21-22页 |
第三章 基于变论域模糊控制的多用炉炉温控制器 | 第22-32页 |
3.1 变论域模糊控制研究现状 | 第22-23页 |
3.2 基于变论域模糊控制的多用炉炉温控制器的设计 | 第23-31页 |
3.2.1 多用炉炉温控制器的结构 | 第23-24页 |
3.2.2 输入输出量的选择 | 第24-26页 |
3.2.3 隶属度函数 | 第26-28页 |
3.2.4 变论域伸缩因子的构造 | 第28-29页 |
3.2.5 模糊规则建立 | 第29-30页 |
3.2.6 去模糊化 | 第30-31页 |
3.3 本章小结 | 第31-32页 |
第四章 控制系统软硬件设计 | 第32-55页 |
4.1 总体方案设计 | 第32-33页 |
4.2 系统硬件设计 | 第33-43页 |
4.2.1 PLC的选型 | 第33-35页 |
4.2.2 分布式I/O | 第35-37页 |
4.2.3 触摸屏 | 第37-38页 |
4.2.4 可控硅功率调节器 | 第38-39页 |
4.2.5 氧探头 | 第39-40页 |
4.2.6 热电偶 | 第40-42页 |
4.2.7 烧嘴控制器 | 第42-43页 |
4.3 软件控制方案 | 第43-44页 |
4.4 PLC程序设计 | 第44-50页 |
4.4.1 动作控制 | 第44-48页 |
4.4.2 温度控制程序 | 第48-49页 |
4.4.3 碳势控制程序 | 第49-50页 |
4.5 触摸屏程序的编写 | 第50-54页 |
4.6 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 实验与结果分析 | 第55-63页 |
5.1 实验系统 | 第55-56页 |
5.2 实验结果 | 第56-62页 |
5.2.1 基于变论域模糊控制的炉温控制器 | 第56-58页 |
5.2.2 PID控制 | 第58-60页 |
5.2.3 模糊控制 | 第60-62页 |
5.3 结果分析 | 第62页 |
5.4 本章小结 | 第62-63页 |
第六章 全文总结 | 第63-64页 |
6.1 主要工作与创新点 | 第63页 |
6.2 后续研究工作 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第68-70页 |