基于流道表面微纹路的微流控混合芯片的设计与制作
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第9-11页 |
| 1.2 微流控混合芯片的国内外研究历史与现状 | 第11-20页 |
| 1.3 本文的主要贡献与创新 | 第20页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第20-22页 |
| 第二章 微纹路形成理论基础 | 第22-32页 |
| 2.1 分布式横向载荷下平板的弯曲 | 第22-25页 |
| 2.2 大形变弯曲状态下平板的平衡方程 | 第25-29页 |
| 2.3 一维纹路的幅度与波长 | 第29-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 微纹路的制作与表征 | 第32-51页 |
| 3.1 褶皱现象 | 第32-34页 |
| 3.2 微纹路的应用 | 第34-35页 |
| 3.3 微纹路的制作 | 第35-38页 |
| 3.3.1 反应离子刻蚀 | 第35-36页 |
| 3.3.2 芯片材料PDMS简介 | 第36页 |
| 3.3.3 夹具的设计 | 第36-38页 |
| 3.4 微纹路的制备步骤 | 第38-39页 |
| 3.5 微纹路的光学表征 | 第39-43页 |
| 3.6 微纹路的原子力显微镜表征 | 第43-50页 |
| 3.6.1 原子力显微镜简介 | 第43-45页 |
| 3.6.1.1 接触模式 | 第44页 |
| 3.6.1.2 非接触模式 | 第44-45页 |
| 3.6.1.3 轻敲模式 | 第45页 |
| 3.6.2 原子力显微镜技术参数 | 第45-46页 |
| 3.6.3 微纹路的形貌和幅度表征 | 第46-50页 |
| 3.7 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 微流控芯片的设计与制作 | 第51-61页 |
| 4.1 微流控芯片的设计 | 第51-54页 |
| 4.1.1 微流控芯片流道设计 | 第51-53页 |
| 4.1.2 掩模版设计 | 第53-54页 |
| 4.2 微流控芯片的制作 | 第54-58页 |
| 4.2.1 微流控芯片模具的制作 | 第54-56页 |
| 4.2.2 普通微流控芯片和弹性掩模版的制作 | 第56-57页 |
| 4.2.2.1 普通微流控芯片的制作 | 第56-57页 |
| 4.2.2.2 弹性掩模版的制作 | 第57页 |
| 4.2.3 改进的微流控芯片制作 | 第57-58页 |
| 4.3 流道底部微纹路形貌的测量 | 第58-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 微混合芯片效率表征 | 第61-89页 |
| 5.1 利用微纹路增强液体混合效率的理论基础 | 第61-66页 |
| 5.1.1 微纹路幅度对混合效率的影响 | 第61-62页 |
| 5.1.2 微纹路形貌对混合效果的影响 | 第62-66页 |
| 5.2 微流控芯片混合效率测试 | 第66-70页 |
| 5.2.1 测试原理 | 第66页 |
| 5.2.2 实验设备 | 第66-68页 |
| 5.2.3 测试步骤 | 第68-70页 |
| 5.3 实验结果分析 | 第70-88页 |
| 5.3.1 图像处理 | 第70-72页 |
| 5.3.2 实验结果分析 | 第72-86页 |
| 5.3.2.1 直沟道不同流速下的混合效率 | 第72-76页 |
| 5.3.2.2 蛇形沟道不同流速下的混合效率 | 第76-81页 |
| 5.3.2.3 螺旋形沟道不同流速下的混合效率 | 第81-86页 |
| 5.3.3 测试结果分析 | 第86-88页 |
| 5.4 本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 总结与展望 | 第89-91页 |
| 6.1 全文总结 | 第89-90页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第97-98页 |
