| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 序言 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 光刻技术 | 第12页 |
| 1.3 摩尔定律 | 第12页 |
| 1.4 光刻的种类 | 第12-17页 |
| 1.4.1 光学接触和接近式光刻 | 第13页 |
| 1.4.2 投影光刻 | 第13-15页 |
| 1.4.3 浸没式光刻 | 第15-16页 |
| 1.4.4 EUV光刻 | 第16-17页 |
| 1.5 光刻工艺 | 第17-21页 |
| 1.5.1 衬底制备 | 第18页 |
| 1.5.2 旋涂光刻胶 | 第18页 |
| 1.5.3 前烘(PAB) | 第18页 |
| 1.5.4 曝光和对准 | 第18-19页 |
| 1.5.5 后烘(PEB) | 第19页 |
| 1.5.6 显影固膜 | 第19-20页 |
| 1.5.7 测量检查 | 第20页 |
| 1.5.8 图形转移和剥离 | 第20-21页 |
| 1.6 论文研究内容及意义 | 第21-22页 |
| 2 光刻机的光源研究 | 第22-32页 |
| 2.1 汞灯光源 | 第23-25页 |
| 2.2 紫外准分子激光器光源 | 第25页 |
| 2.3 LED光源介绍 | 第25-32页 |
| 2.3.1 LED发光原理 | 第25-26页 |
| 2.3.2 LED光学特性 | 第26-28页 |
| 2.3.3 LED电学特性 | 第28-29页 |
| 2.3.4 UV-LED驱动电路的设计 | 第29-32页 |
| 3 曝光光源的稳定性和控制方法研究 | 第32-44页 |
| 3.1 UV-LED的温度控制模拟和实验结果分析 | 第32-37页 |
| 3.2 UV-LED的波长、强度的控制与实验结果分析 | 第37-39页 |
| 3.3 UV-LED曝光光路和对准显微光路 | 第39-44页 |
| 3.3.1 显微光路设计 | 第39-41页 |
| 3.3.2 曝光光路模拟和设计 | 第41-44页 |
| 4 光刻系统集成与实验结果分析 | 第44-55页 |
| 4.1 光刻分辨力和线条质量提升 | 第44-46页 |
| 4.2 曝光与套刻实验 | 第46-53页 |
| 4.3 整机的经济性和效率分析 | 第53-55页 |
| 5 结论和展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 学位论文数据集 | 第60页 |