试验设计方法在微电子涂胶和刻蚀工艺优化中的应用研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·项目研究的背景 | 第7页 |
| ·研究意义 | 第7-9页 |
| ·国际国内研究状况和进展 | 第9-11页 |
| ·试验设计的发展 | 第9-10页 |
| ·在工艺优化方面的发展和现状 | 第10-11页 |
| ·本研究的主要工作及研究框架 | 第11-13页 |
| 第二章 试验设计理论与方法 | 第13-27页 |
| ·试验设计基础 | 第13-15页 |
| ·基本术语 | 第13-14页 |
| ·试验设计的基本原则 | 第14页 |
| ·试验设计的目的 | 第14-15页 |
| ·试验设计方案 | 第15-25页 |
| ·试验设计方案的分类 | 第15-17页 |
| ·拉丁方设计基本原理 | 第17-18页 |
| ·因子试验设计基本原理 | 第18-21页 |
| ·响应曲面方案设计基本原理 | 第21-25页 |
| ·试验设计方法应用的一般步骤 | 第25-27页 |
| 第三章 因子设计的应用过程 | 第27-37页 |
| ·因子试验观测值的描述 | 第27-28页 |
| ·析因试验应用案例 | 第28-30页 |
| ·因子效应的估计 | 第28-30页 |
| ·方差分析和回归分析 | 第30页 |
| ·部分因子试验 | 第30-33页 |
| ·部分因子试验的一般过程 | 第30-32页 |
| ·部分因子试验的特点 | 第32-33页 |
| ·筛选试验在刻蚀工艺中的应用 | 第33-37页 |
| ·等离子刻蚀工艺描述 | 第33-34页 |
| ·筛选试验的方案选择 | 第34-35页 |
| ·筛选试验的后续工作 | 第35-37页 |
| 第四章 响应曲面法的应用过程 | 第37-49页 |
| ·响应曲面法一般模型 | 第37-38页 |
| ·涂胶工艺描述 | 第38-40页 |
| ·试验目的及目标值 | 第38-39页 |
| ·影响目标值的因素分析 | 第39-40页 |
| ·试验中的注意事项 | 第40页 |
| ·试验方案的选择及试验结果 | 第40-44页 |
| ·方案的选择 | 第40-41页 |
| ·数据的编码处理 | 第41-42页 |
| ·试验结果 | 第42-44页 |
| ·数据分析 | 第44-47页 |
| ·因子效应和模型项选择 | 第44-45页 |
| ·膜厚、均匀性的模型 | 第45-46页 |
| ·模型评价 | 第46-47页 |
| ·模型的检验及工艺优化 | 第47-49页 |
| 第五章 结束语 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 在读期间的研究成果 | 第57-58页 |
