| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·光电效应的分类及其应用 | 第12-19页 |
| ·光电子发射效应及其应用 | 第13-14页 |
| ·光电导效应及其应用 | 第14-16页 |
| ·光生伏特效应及其应用 | 第16-17页 |
| ·光电效应的衍生效应 | 第17-19页 |
| ·光伏探测器 | 第19-22页 |
| ·光伏探测器的分类 | 第19页 |
| ·光伏探测器的基本原理 | 第19-22页 |
| ·光伏探测器中的光伏材料 | 第22页 |
| ·论文的主要工作 | 第22-24页 |
| ·论文的选题意义 | 第22-23页 |
| ·论文的研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 氧化钒薄膜制备原理与分析测试方法 | 第24-46页 |
| ·氧化钒薄膜制备的常见技术 | 第24-26页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第24页 |
| ·溅射镀膜 | 第24-25页 |
| ·金属-有机化学气相沉积（MOCVD） | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第25页 |
| ·溶胶凝胶法（Sol-Gel） | 第25-26页 |
| ·磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第26-29页 |
| ·磁控溅射设备的基本构造 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射法基本原理 | 第27-29页 |
| ·氧化钒薄膜的表征 | 第29-36页 |
| ·四探针法测定氧化钒薄膜方阻（Sheet resistance） | 第29-31页 |
| ·四探针测量法基本原理 | 第30-31页 |
| ·四探针测量法基本构造 | 第31页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）表征氧化钒薄膜组分 | 第31-36页 |
| ·X 射线光电子能谱仪（XPS）基本原理 | 第33-34页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）主结构 | 第34-35页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）化学位移 | 第35-36页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)强度测定和定量分析? | 第36页 |
| ·薄膜光学常数的常见方法 | 第36-46页 |
| ·椭圆偏振测量法 | 第38页 |
| ·傅里叶变换红外光谱法 | 第38-39页 |
| ·紫外分光光度计测定吸收系数 | 第39-40页 |
| ·包络法 | 第40-43页 |
| ·经验公式法 | 第43-45页 |
| ·介电函数模型法 | 第45-46页 |
| 第三章 氧化钒薄膜光学常数 | 第46-50页 |
| ·Relaxed Lorentz? 模型测定氧化钒薄膜光学带隙? | 第47-48页 |
| ·Tauc-lorentz 模型测定氧化钒薄膜光学带隙 | 第48-50页 |
| 第四章 反常光伏效应氧化钒薄膜的获得及其理论分析 | 第50-66页 |
| ·反常光伏效应机制 | 第50-52页 |
| ·Dember 效应 | 第50-51页 |
| ·结构跃迁模型 | 第51页 |
| ·P-N 结模型 | 第51页 |
| ·表面光生电压理论 | 第51-52页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·反常光伏效应氧化钒的获得 | 第53-57页 |
| ·氧化钒薄膜的退火处理 | 第53-54页 |
| ·退火温度对氧化钒薄膜方阻值的影响 | 第54-55页 |
| ·退火时间对氧化钒薄膜方阻值的影响 | 第55页 |
| ·升温速度对氧化钒薄膜方阻值的影响 | 第55-56页 |
| ·退火过程对氧化钒薄膜方阻值的影响 | 第56-57页 |
| ·反常氧化钒薄膜的光伏特性测定 | 第57-61页 |
| ·氧化钒薄膜XPS 分析 | 第61-64页 |
| ·氧化钒薄膜光伏机理分析 | 第64-66页 |
| ·光生载流子的形成 | 第64-65页 |
| ·光生载流子的分离 | 第65-66页 |
| 第五章 氧化钒薄膜应用于光伏器件的设计 | 第66-72页 |
| ·氧化钒薄膜应用于光伏器件的整体设计思路 | 第66-67页 |
| ·氧化钒薄膜应用于光伏器件的制备工艺 | 第67-70页 |
| ·评定氧化钒光伏器件性能的参数 | 第70-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·工作总结 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 作者攻硕期间取得的成果 | 第79-80页 |
