摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
符号对照表 | 第13-14页 |
缩略语对照表 | 第14-18页 |
第一章 绪论 | 第18-26页 |
1.1 MOCVD概述 | 第18-21页 |
1.1.1 MOCVD的原理 | 第18页 |
1.1.2 MOCVD设备的简介 | 第18-21页 |
1.2 MOCVD数值模拟的研究现状 | 第21-22页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第21-22页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第22页 |
1.3 研究意义 | 第22-23页 |
1.4 本文的行文安排 | 第23-26页 |
第二章 温度场数值计算方法 | 第26-52页 |
2.1 热传导基本原理 | 第26-28页 |
2.1.1 基本概念 | 第26页 |
2.1.2 傅里叶定律 | 第26-27页 |
2.1.3 柱坐标系下的热传导方程 | 第27-28页 |
2.2 热辐射及辐射换热原理 | 第28-36页 |
2.2.1 热辐射 | 第28-29页 |
2.2.2 辐射换热原理 | 第29-30页 |
2.2.3 可视因子的定义与性质 | 第30-32页 |
2.2.4 封闭腔热辐射换热计算 | 第32-34页 |
2.2.5 同轴环形面之间的可视因子计算 | 第34-36页 |
2.3 MOCVD石墨基座辐射加热的计算模型 | 第36-37页 |
2.3.1 材料的物性参数 | 第36-37页 |
2.3.2 基本假设 | 第37页 |
2.3.3 动态和非线性问题的处理 | 第37页 |
2.4 热传导方程的定解条件 | 第37-38页 |
2.5 石墨基座温度场的数值计算 | 第38-50页 |
2.5.1 有限元法的基本思想 | 第38-39页 |
2.5.2 有内热源的二维轴对称不稳定温度场的泛函 | 第39-41页 |
2.5.3 温度场的离散 | 第41-43页 |
2.5.4 单元的变分计算 | 第43-46页 |
2.5.5 单元矩阵的总体合成 | 第46-48页 |
2.5.6 时间的离散 | 第48-49页 |
2.5.7 温度场计算程序框图 | 第49-50页 |
2.6 本章小结 | 第50-52页 |
第三章 有限元温度场分析系统的设计与实现 | 第52-78页 |
3.1 有限元温度场分析系统的需求分析 | 第52页 |
3.2 有限元温度场分析系统的总体设计 | 第52-55页 |
3.2.1 有限元温度场分析系统的基本流程 | 第52-54页 |
3.2.2 有限元温度场分析系统的功能模块划分 | 第54-55页 |
3.2.3 前后置处理与求解器的接口设计 | 第55页 |
3.3 有限元温度场分析系统的设计 | 第55-67页 |
3.3.1 前置处理模块的设计 | 第55-63页 |
3.3.2 求解计算模块的设计 | 第63-66页 |
3.3.3 后置处理模块的设计 | 第66-67页 |
3.4 开发环境的分析与确定 | 第67-68页 |
3.5 有限元温度场分析系统的可视化实现 | 第68-76页 |
3.5.1 定义结构参数的可视化 | 第69-70页 |
3.5.2 定义边界条件的可视化 | 第70-71页 |
3.5.3 定义热载荷的可视化 | 第71页 |
3.5.4 定义材料属性的可视化 | 第71-72页 |
3.5.5 定义截面数据、初始条件和计算步长的可视化 | 第72-73页 |
3.5.6 网格划分的可视化 | 第73-74页 |
3.5.7 生成作业文件的可视化 | 第74-75页 |
3.5.8 后置处理的可视化 | 第75-76页 |
3.6 本章小结 | 第76-78页 |
第四章 有限元温度场数值模拟算法的验证 | 第78-92页 |
4.1 无空腔辐射换热的降温过程 | 第78-82页 |
4.2 有空腔辐射的升温过程 | 第82-86页 |
4.3 有空腔辐射的降温过程 | 第86-91页 |
4.4 本章小结 | 第91-92页 |
第五章 石墨基座温度场的研究 | 第92-102页 |
5.1 石墨基座与加热器之间的距离对温度场的影响 | 第93-95页 |
5.2 石墨基座厚度对温度场的影响 | 第95-96页 |
5.3 加热圈数量对温度场的影响 | 第96-98页 |
5.4 加热功率对温度场的影响 | 第98-99页 |
5.5 加热圈宽度对温度场的影响 | 第99-101页 |
5.6 本章小结 | 第101-102页 |
第六章 总结与展望 | 第102-104页 |
参考文献 | 第104-108页 |
致谢 | 第108-110页 |
作者简介 | 第110-111页 |