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铜引线键合工艺中焊盘内伤失效机理研究和改进

摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 课题概述第9-10页
    1.2 选题依据和研究意义第10-11页
    1.3 国内外研究动态第11-13页
    1.4 半导体分立器件及封装领域研究的发展态势第13-15页
    1.5 本章小结第15-16页
第二章 引线键合封装技术第16-35页
    2.1 半导体引线键合技术概要第16-17页
    2.2 主流键合设备介绍第17-21页
    2.3 键合材料简介第21-22页
    2.4 键合熔球形成第22页
    2.5 引线键合方式简介第22-25页
        2.5.1 热压键合原理第22-23页
        2.5.2 超声键合第23-24页
        2.5.3 热压超声键合第24页
        2.5.4 几种键合技术的比较第24-25页
    2.6 键合劈刀第25-27页
    2.7 引线键合过程第27-29页
        2.7.1 熔球键合工艺第27-28页
        2.7.2 楔形键合工艺第28-29页
        2.7.3 两种键合工艺比较第29页
    2.8 超声波的温度特性第29-30页
    2.9 超声波在引线键合机换能杆中的传递特性第30-32页
    2.10 环境温度特性第32-34页
    2.11 引线键合的界面特性第34页
    2.12 本章小结第34-35页
第三章 引起焊盘内伤缺陷因素分析第35-51页
    3.1 焊盘内伤缺陷简述第35-39页
    3.2 铜线因素分析第39-41页
    3.3 劈刀因素第41-42页
    3.4 超声波因素第42-44页
    3.5 键合劈刀运动因素第44-45页
    3.6 打火因素和线尾第45-46页
    3.7 键合温度因素第46-47页
    3.8 键合污染因素第47页
    3.9 卤素元素第47-48页
    3.10 键合夹具状态第48-50页
    3.11 本章小结第50-51页
第四章 工程试验及结果分析第51-70页
    4.1 试验方向第51-52页
    4.2 缺陷检测方法第52-55页
    4.3 铜线污染第55-56页
    4.4 键合熔球氧化第56-58页
    4.5 键合焊盘污染第58-59页
    4.6 键合劈刀寿命第59-61页
    4.7 键合能量参数第61-69页
    4.8 本章小结第69-70页
第五章 结论第70-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-76页

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