大型复杂曲面的机器人研抛技术研究
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-26页 |
1.1 研究背景与意义 | 第12-14页 |
1.2 自动化研磨抛光相关技术国内外研究现状 | 第14-23页 |
1.2.1 研磨抛光系统研究现状 | 第14-20页 |
1.2.2 自动化研抛工艺技术研究现状 | 第20-22页 |
1.2.3 机器人研抛力控制技术研究现状 | 第22-23页 |
1.3 课题来源及主要研究内容 | 第23-26页 |
1.3.1 课题主要来源 | 第23页 |
1.3.2 主要研究内容 | 第23-26页 |
第2章 机器人自动化研抛系统 | 第26-39页 |
2.1 机器人研抛系统构成及功能 | 第26-27页 |
2.2 机器人自动化研抛系统硬件构成 | 第27-29页 |
2.2.1 工业机器人 | 第27-29页 |
2.2.2 外部直线轴 | 第29页 |
2.2.3 其他附属装置 | 第29页 |
2.3 机器人末端研抛工具 | 第29-34页 |
2.3.1 柔性抛光工具的设计要求 | 第29-30页 |
2.3.2 柔性抛光工具结构设计 | 第30-32页 |
2.3.3 气动驱动马达 | 第32-33页 |
2.3.4 六维力/力矩传感器 | 第33-34页 |
2.3.5 研磨抛光头及磨料 | 第34页 |
2.4 系统通讯方式 | 第34-38页 |
2.4.1 机器人与控制计算机之间的通讯 | 第35-36页 |
2.4.2 六维力传感器与上位机之间的通讯 | 第36-38页 |
2.5 本章小结 | 第38-39页 |
第3章 研抛材料去除特性分析及材料去除建模 | 第39-60页 |
3.1 研抛工具接触区域压强分布分析 | 第39-44页 |
3.1.1 研抛工具与平面工件接触压强分布分析 | 第39-42页 |
3.1.2 研抛工具与曲面工件接触压强分布分析 | 第42-44页 |
3.2 抛光盘接触区域研抛速度分析 | 第44-45页 |
3.3 研抛工具材料去除模型建立 | 第45-52页 |
3.3.1 研抛材料去除机理分析 | 第45-47页 |
3.3.2 研抛材料去除理论 | 第47-48页 |
3.3.3 研抛平面时材料去除轮廓模型建立 | 第48-51页 |
3.3.4 研抛曲面时材料去除轮廓模型建立 | 第51-52页 |
3.4 研抛材料去除轮廓模型分析 | 第52-58页 |
3.4.1 研抛压力对去除深度的影响 | 第52-54页 |
3.4.2 工具转速对去除深度的影响 | 第54-55页 |
3.4.3 进给速度对去除深度的影响 | 第55页 |
3.4.4 研抛轨迹行间距对去除深度的影响 | 第55-58页 |
3.5 本章小结 | 第58-60页 |
第4章 机器人研抛力控制技术研究 | 第60-76页 |
4.1 机器人末端抛光工具的位姿描述 | 第60-63页 |
4.2 抛光盘工具受力分析 | 第63-65页 |
4.3 机器人主被动柔顺控制策略 | 第65-67页 |
4.4 基于滑膜变结构控制理论的力控制器的设计 | 第67-73页 |
4.4.1 滑模变结构控制的基本理论 | 第67-69页 |
4.4.2 研磨抛光机器人滑模控制器的设计与仿真 | 第69-73页 |
4.5 机器人研抛力控制实验 | 第73-75页 |
4.6 本章小结 | 第75-76页 |
第5章 航空透明件研抛加工实验及参数优化 | 第76-97页 |
5.1 研抛实验条件 | 第76-82页 |
5.1.1 实验样件材料及样件理论几何模型 | 第76-77页 |
5.1.2 研抛实验设备 | 第77-79页 |
5.1.3 研抛轨迹的生成 | 第79-80页 |
5.1.4 研抛工艺参数 | 第80-82页 |
5.2 研抛实验结果及分析 | 第82-89页 |
5.2.1 单因素研磨抛光实验结果及分析 | 第82-85页 |
5.2.2 正交研磨实验结果及分析 | 第85-89页 |
5.3 机器人自动化研抛工艺过程规划 | 第89-95页 |
5.4 本章小结 | 第95-97页 |
结论 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-106页 |
攻读硕士期间发表的论文和取得的科研成果 | 第106-107页 |
致谢 | 第107-108页 |