| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 课题来源 | 第15页 |
| 1.3 研究背景及意义 | 第15-17页 |
| 1.4 光栅刻划机发展及趋势 | 第17-21页 |
| 1.4.1 光栅刻划机的发展概况 | 第17-18页 |
| 1.4.2 国外光栅刻划机发展现状 | 第18-20页 |
| 1.4.3 国内光栅刻划机发展现状 | 第20-21页 |
| 1.5 课题研究的内容和方法 | 第21-22页 |
| 第二章 隔振理论及隔振技术 | 第22-27页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 隔振理论概述 | 第22-27页 |
| 2.2.1 被动隔振发展及现状 | 第22-24页 |
| 2.2.2 半主动隔振 | 第24-25页 |
| 2.2.3 主动隔振 | 第25-26页 |
| 2.2.4 作动器简介 | 第26页 |
| 2.2.5 主动控制器简介 | 第26-27页 |
| 第三章 光栅刻划机环境振动来源分析 | 第27-33页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 振动基本理论 | 第27-29页 |
| 3.3 光栅刻划机环境振动因素 | 第29-30页 |
| 3.4 人员走动引起的振动分析 | 第30-31页 |
| 3.5 振动因素分类 | 第31页 |
| 3.6 光栅刻划机环境振动传递路径及隔振策略 | 第31-33页 |
| 第四章 光栅刻划机基座被动隔振研究 | 第33-44页 |
| 4.1 光栅刻划机基座被动隔振方案 | 第33-35页 |
| 4.2 光栅刻划机基座单自由度隔振研究 | 第35-39页 |
| 4.3 光栅刻划机基座双层隔振系统数学模型及仿真分析 | 第39-44页 |
| 4.3.1 光栅刻划机基座隔振系统参数确定 | 第40-41页 |
| 4.3.2 双层被动隔振仿真结果及分析 | 第41-44页 |
| 第五章 光栅刻划机基座主被动复合隔振方法研究 | 第44-62页 |
| 5.1 作动器和作动器的选择 | 第44-45页 |
| 5.1.1 超磁致伸缩作动器 | 第44-45页 |
| 5.2 基于传统PID主动控制隔振控制器设计 | 第45-46页 |
| 5.2.1 PID基本理论 | 第45-46页 |
| 5.2.2 PID参数整定 | 第46页 |
| 5.3 光栅刻划机单层PID主动控制隔振研究 | 第46-51页 |
| 5.3.1 光栅刻划机单层PID主动控制模型的建立 | 第46-47页 |
| 5.3.2 光栅刻划机单层PID主动控制仿真及结果分析 | 第47-51页 |
| 5.4 双层隔振系统PID控制主动隔振方法应用 | 第51-56页 |
| 5.4.1 双层隔振系统作动器安装位置方式选择 | 第51-52页 |
| 5.4.2 光栅刻划机复合隔振的动力学模型及仿真框图搭建 | 第52-54页 |
| 5.4.3 双层隔振系统PID控制复合隔振方法仿真及结果分析 | 第54-56页 |
| 5.5 模糊PID控制复合隔振方法研究 | 第56-62页 |
| 5.5.1 模糊自适应PID控制器的设计 | 第57-58页 |
| 5.5.2 基于模糊理论自适应PID控制复合隔振仿真 | 第58-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 论文总结 | 第62页 |
| 6.2 研究展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第67页 |
