| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·氧化钒的应用 | 第9-12页 |
| ·红外探测器的应用 | 第9-10页 |
| ·光开关的应用 | 第10-11页 |
| ·THz 波调制应用 | 第11-12页 |
| ·氧化钒薄膜的研究现状 | 第12页 |
| ·本课题研究内容与意义 | 第12-14页 |
| 第二章 氧化钒薄膜的理化性质，制备方法及分析方法 | 第14-30页 |
| ·氧化钒薄膜的理化性质介绍 | 第14-18页 |
| ·三氧化二钒（V2O3） | 第15页 |
| ·二氧化钒（VO2） | 第15-17页 |
| ·五氧化二钒（V2O5） | 第17-18页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法介绍 | 第18-22页 |
| ·蒸发法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·溅射法 | 第20-22页 |
| ·氧化钒薄膜的分析方法介绍 | 第22-30页 |
| ·氧化钒薄膜电学特性分析 | 第22-24页 |
| ·氧化钒薄膜 THz 透射特性分析 | 第24-25页 |
| ·氧化钒薄膜结晶状况分析 | 第25-26页 |
| ·氧化钒薄膜形貌分析 | 第26-28页 |
| ·氧化钒薄膜成分分析 | 第28-30页 |
| 第三章 快速热氧化法制备氧化钒薄膜工艺介绍及性能表征 | 第30-38页 |
| ·氧化钒薄膜制备设备介绍 | 第30-32页 |
| ·DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜机 | 第30-31页 |
| ·AG610 型快速热处理设备 | 第31-32页 |
| ·氧化钒薄膜工艺流程介绍 | 第32-36页 |
| ·基底的准备 | 第32-33页 |
| ·金属钒薄膜的制备及其工艺参数 | 第33页 |
| ·纯氧气环境下快速热处理工艺及参数 | 第33-35页 |
| ·纯氮气环境下快速热处理工艺及参数 | 第35-36页 |
| ·氧化钒薄膜的性能表征 | 第36-38页 |
| ·电阻温度特性测量 | 第36页 |
| ·X射线衍射（XRD）测试 | 第36页 |
| ·原子力显微镜（AFM）测试 | 第36页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第36-37页 |
| ·氧化钒薄膜THz透射特性分析 | 第37-38页 |
| 第四章 实验数据分析 | 第38-57页 |
| ·Si基底制备氧化钒薄膜性能分析 | 第38-52页 |
| ·纯氧气环境下快速热处理工艺对薄膜电学特性的影响 | 第39-43页 |
| ·纯氧气环境下快速热处理工艺对薄膜结晶状况的影响 | 第43-45页 |
| ·纯氧气环境下快速热处理工艺对薄膜表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·纯氮气环境下快速热处理对薄膜特性的影响 | 第47-52页 |
| ·不同基底制备氧化钒薄膜性能分析 | 第52-55页 |
| ·薄膜电学特性分析 | 第52-54页 |
| ·薄膜结晶状况分析 | 第54-55页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 实验总结与展望 | 第57-59页 |
| ·实验总结 | 第57-58页 |
| ·工作展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |