消逝场型光纤氢敏传感器工艺及检测方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·光纤氢敏传感器的研究现状 | 第9-13页 |
| ·光纤微透镜型氢敏传感器 | 第10页 |
| ·干涉式光纤氢敏传感器 | 第10-11页 |
| ·光纤光栅氢敏传感器 | 第11页 |
| ·光纤表面等离子体共振氢敏传感器 | 第11-12页 |
| ·光纤消逝场型氢敏传感器 | 第12-13页 |
| ·本文的意义及研究内容 | 第13-15页 |
| ·本文的意义 | 第13页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 消逝场型光纤氢敏传感器原理与检测方法优化 | 第15-39页 |
| ·光纤简介 | 第15-17页 |
| ·消逝场型光纤氢敏传感器原理 | 第17-23页 |
| ·麦克斯韦方程与亥姆霍兹方程 | 第17-18页 |
| ·波导场方程 | 第18-19页 |
| ·弱导光纤中的线偏振模 | 第19-21页 |
| ·光纤传感器的结构 | 第21-22页 |
| ·光学检测系统 | 第22-23页 |
| ·光纤传感器中的能量分布 | 第23页 |
| ·消逝场型光纤氢敏传感器检测方法优化 | 第23-36页 |
| ·传统检测方法 | 第23-26页 |
| ·优化检测方法 | 第26-29页 |
| ·传感器主要参数对性能的影响 | 第29-36页 |
| ·本章小结 | 第36-39页 |
| 3 光纤腐蚀包层实验研究 | 第39-47页 |
| ·光纤去包层工艺的选择 | 第39-40页 |
| ·化学腐蚀法去包层原理与实验装置 | 第40-41页 |
| ·腐蚀包层原理 | 第40-41页 |
| ·腐蚀包层实验装置 | 第41页 |
| ·腐蚀包层实验及结果分析 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 4 光纤镀膜实验研究 | 第47-67页 |
| ·Pd/WO3溶胶的制备 | 第49-54页 |
| ·Pd/WO3溶胶的制备实验 | 第49-52页 |
| ·三氧化钨薄膜表面形态的表征 | 第52-54页 |
| ·浸渍提拉法镀 Pd/WO3薄膜实验 | 第54-56页 |
| ·浸渍提拉法介绍 | 第54页 |
| ·镀膜实验 | 第54-56页 |
| ·光纤端面镀银 | 第56-61页 |
| ·化学镀银溶液的组分及作用 | 第57-58页 |
| ·化学镀银反应原理 | 第58页 |
| ·光纤镀银的前处理 | 第58-60页 |
| ·光纤端面镀银实验 | 第60-61页 |
| ·光纤镀银实验结果与分析 | 第61-65页 |
| ·光纤端面镀银实验检测系统 | 第61页 |
| ·光纤端面银膜的生长情况 | 第61-62页 |
| ·光纤端面银膜的反射率光谱 | 第62-63页 |
| ·退火对银膜反射率的影响 | 第63页 |
| ·银膜与 Pd/WO3膜的镀膜顺序问题 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 5 传感器测试实验系统及氢敏测试实验 | 第67-71页 |
| ·测试实验系统设计 | 第67-68页 |
| ·测试实验及结果分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 6 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·总结 | 第71页 |
| ·展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 附录 | 第79页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第79页 |
| B. 作者在攻读学位期间参与的科研项目 | 第79页 |
