| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-10页 |
| ·引言 | 第6页 |
| ·LANGE耦合器的特点和用途 | 第6-7页 |
| ·星用LANGE耦合器制作工艺的研究意义 | 第7-8页 |
| ·国内外LANGE耦合器制作工艺的研究状况 | 第8-10页 |
| 第二章 LANGE耦合器的设计原理和仿真 | 第10-14页 |
| ·设计原理 | 第10-11页 |
| ·LANGE耦合器设计实例与仿真 | 第11-14页 |
| 第三章 制作LANGE耦合器不同基片材料的特性对比 | 第14-21页 |
| ·制作LANGE耦合器常用基片材料的性能 | 第14-18页 |
| ·基于不同基片材料的LANGE耦合器的仿真情况 | 第18-21页 |
| 第四章 LANGE耦合器的典型制作工艺 | 第21-28页 |
| ·先光刻后电镀工艺 | 第21-22页 |
| ·先电镀后光刻工艺 | 第22-26页 |
| ·典型制作工艺的局限性分析 | 第26-28页 |
| 第五章 LANGE耦合器的制作工艺改进研究 | 第28-35页 |
| ·改进思路 | 第28页 |
| ·工艺改进的理论与实践 | 第28-31页 |
| ·选择性图形电镀工艺的研究与应用 | 第31-35页 |
| 第六章 新技术在LANGE耦合器制作中应用的探讨 | 第35-51页 |
| ·干法刻蚀技术 | 第35-36页 |
| ·等离子清洗技术 | 第36-45页 |
| ·基本概念与原理 | 第36-40页 |
| ·等离子清洗工艺在Lange耦合器制作中的应用 | 第40-45页 |
| ·空气桥制作技术 | 第45-51页 |
| ·空气桥原理 | 第45-46页 |
| ·空气桥的制作工艺实践 | 第46-50页 |
| ·空气桥制作工艺使用的可行性 | 第50-51页 |
| 第七章 测试结果与结论 | 第51-57页 |
| 第八章 结束语 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 作者在读期间的研究成果 | 第61-62页 |