超深亚微米下一种光刻仿真工具的系统框架研究及其实现
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·集成电路发展概述 | 第7-8页 |
| ·集成电路设计技术的发展 | 第8-9页 |
| ·集成电路的生产工艺 | 第9页 |
| ·超深亚微米下集成电路制造工艺的问题 | 第9-11页 |
| ·目前世界上的相关研究 | 第11-12页 |
| ·论文组织 | 第12-13页 |
| 第二章 集成电路制造光刻系统及仿真 | 第13-27页 |
| ·集成电路制造简介 | 第13-16页 |
| ·晶片制造 | 第13-14页 |
| ·光刻工艺 | 第14-15页 |
| ·氧化、沉积及离子注入等工艺 | 第15-16页 |
| ·光刻系统描述 | 第16-25页 |
| ·光刻基本理论 | 第17-19页 |
| ·照明系统 | 第19-22页 |
| ·光源 | 第19-20页 |
| ·聚光透镜 | 第20页 |
| ·离轴照明技术 | 第20-22页 |
| ·掩模 | 第22-23页 |
| ·光学成像系统 | 第23-24页 |
| ·光刻胶 | 第24-25页 |
| ·光刻系统仿真的意义 | 第25-27页 |
| 第三章 光刻仿真系统框架的研究 | 第27-38页 |
| ·空间成像理论 | 第27-34页 |
| ·部分相干光 | 第27-29页 |
| ·照明成像 | 第29-31页 |
| ·透镜相差研究 | 第31-34页 |
| ·光刻胶模型 | 第34-35页 |
| ·有关算法研究 | 第35-38页 |
| ·基本思想 | 第35-36页 |
| ·TCC分解 | 第36-38页 |
| 第四章 现有光刻仿真软件介绍及对比 | 第38-46页 |
| ·Progen | 第38-42页 |
| ·Progen模型 | 第39-40页 |
| ·Progen环境 | 第40-42页 |
| ·Calibre RET | 第42-45页 |
| ·Calibre模型 | 第43-44页 |
| ·VT5模型 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第五章 光刻仿真系统的实现 | 第46-65页 |
| ·Litholab简介 | 第46-54页 |
| ·数学库 | 第47-49页 |
| ·高层模块 | 第49-53页 |
| ·脚本语言接口 | 第53-54页 |
| ·工具使用 | 第54-59页 |
| ·脚本处理 | 第54-56页 |
| ·界面交互处理 | 第56-59页 |
| ·实例结果 | 第59-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录 硕士研究生期间发表文章 | 第71页 |
