基于d33模式的压电微加速度计的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景概述 | 第10页 |
| 1.2 MEMS技术简介 | 第10-11页 |
| 1.3 压电效应与压电薄膜简介 | 第11-15页 |
| 1.3.1 压电效应 | 第11-12页 |
| 1.3.2 压电材料的分类 | 第12-13页 |
| 1.3.3 压电薄膜 | 第13-15页 |
| 1.4 压电微加速度计的发展 | 第15-20页 |
| 1.5 本文的主要内容及组织架构 | 第20-21页 |
| 第二章 理论分析与仿真 | 第21-42页 |
| 2.1 压电换能器的两种工作模式 | 第21-22页 |
| 2.2 理论分析 | 第22-26页 |
| 2.2.1 d_(33)模式单元 | 第22-24页 |
| 2.2.2 d_(31)模式单元 | 第24-25页 |
| 2.2.3 两种模式对比 | 第25-26页 |
| 2.3 基于d_(33)模式的压电微加速度计 | 第26-32页 |
| 2.3.1 基本原理 | 第27-28页 |
| 2.3.2 数学模型 | 第28-32页 |
| 2.4 ANSYS仿真 | 第32-40页 |
| 2.4.1 基本参数 | 第32-33页 |
| 2.4.2 静电场分析 | 第33-36页 |
| 2.4.3 静力学分析 | 第36-39页 |
| 2.4.4 模态分析 | 第39-40页 |
| 2.4.5 谐响应分析 | 第40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 微加工工艺流程 | 第42-56页 |
| 3.1 工艺介绍 | 第42-46页 |
| 3.1.1 光刻技术 | 第43-44页 |
| 3.1.2 溅射技术 | 第44页 |
| 3.1.3 刻蚀技术 | 第44-46页 |
| 3.2 工艺流程设计 | 第46-47页 |
| 3.3 掩膜版的设计 | 第47-49页 |
| 3.4 微加工工艺流程 | 第49-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 测量电路 | 第56-69页 |
| 4.1 电荷放大器基本原理 | 第56-59页 |
| 4.1.1 压电加速度计的等效电路 | 第56-57页 |
| 4.1.2 电荷放大器的基本原理 | 第57-59页 |
| 4.2 冷放电电荷放大器的基本原理 | 第59-61页 |
| 4.3 测量电路设计 | 第61-63页 |
| 4.4 PCB设计与测试 | 第63-68页 |
| 4.4.1 PCB设计 | 第63-65页 |
| 4.4.2 PCB测试 | 第65-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 5.1 工作总结 | 第69-70页 |
| 5.2 工作展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
