ZnO MOCVD的生长模拟与优化

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章 绪论	第10-33页
·氧化锌材料概述	第10-11页
·氧化锌的基本物理性质	第11-14页
·氧化锌的制备方法	第14-17页
·氧化锌的研究现状	第17-22页
·CFD模拟研究	第17-20页
·氧化锌缓冲层的MOCVD生长	第20-22页
·常用的实验表征手段	第22-26页
·论文主要内容和结构	第26-27页
参考文献	第27-33页
第二章 MOCVD的生长模拟	第33-52页
·ZnO MOCVD生长机理	第33-35页
·计算流体力学和FLUENT系列软件	第35-38页
·ZnO MOCVD的生长模拟	第38-49页
·模型描述	第38-40页
·结果与讨论	第40-49页
·本章小结	第49-50页
参考文献	第50-52页
第三章 ZnO MOCVD气源选择与气相预反应	第52-60页
·ZnO MOCVD的常用反应气源	第52-53页
·DMZn、DEZn气相预反应的原位质谱仪监测	第53-54页
·结果与讨论	第54-58页
·单一气体的热分解	第54-56页
·锌源氧源混合	第56-58页
·本章小结	第58-59页
参考文献	第59-60页
第四章 ZnO MOCVD生长优化	第60-81页
·引言	第60-61页
·ZnO低温缓冲层的MOCVD生长	第61-62页
·实验结果与讨论	第62-78页
·氢气流量	第62-65页
·反应室压力	第65-69页
·生长温度	第69-72页
·生长速率与厚度	第72-75页
·ZnO缓冲层MOCVD生长条件优化	第75-78页
·本章小结	第78-80页
参考文献	第80-81页
第五章 结论与展望	第81-83页
致谢	第83-84页
论文发表和学术会议情况	第84-85页