| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 课题的背景与意义 | 第11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-16页 |
| 1.2.1 表面等离子体光刻现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 光刻调平现状 | 第14-16页 |
| 1.3 论文研究来源和章节安排 | 第16-18页 |
| 第二章 SP接触直写光刻实验研究及其问题分析 | 第18-35页 |
| 2.1 SP接触直写光刻实验装置 | 第18-20页 |
| 2.1.1 SP接触直写光刻实验原理样机 | 第18-19页 |
| 2.1.2 光刻头运动模式介绍 | 第19-20页 |
| 2.2 SP接触直写光刻实验材料制备工艺 | 第20-24页 |
| 2.2.1 SP接触直写光刻头微加工工艺 | 第20-22页 |
| 2.2.2 Bowtie孔径结构的加工工艺 | 第22-23页 |
| 2.2.3 SP接触直写光刻硅片处理工艺 | 第23-24页 |
| 2.3 SP接触直写光刻实验步骤 | 第24-26页 |
| 2.4 实验的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 2.4.1 光刻头的空间姿态变化参数指标 | 第26-27页 |
| 2.4.2 Bowtie-Pr-Ag结构的光刻仿真参数指标 | 第27-28页 |
| 2.5 光刻实验与实验结果分析 | 第28-33页 |
| 2.5.1 光刻胶极限承受压强测试实验及分析 | 第28-30页 |
| 2.5.2 光刻头光刻过程偏转实验及分析 | 第30页 |
| 2.5.3 光刻聚焦光斑特征尺寸实验及分析 | 第30-32页 |
| 2.5.4 光刻线条实验及分析 | 第32-33页 |
| 2.6 光刻头姿态问题的提出 | 第33页 |
| 2.6.1 光刻头姿态的检测调平问题 | 第33页 |
| 2.6.2 光刻头接触模式下的姿态问题 | 第33页 |
| 2.7 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 光刻头接近模式空间姿态的检测调平方案 | 第35-47页 |
| 3.1 光刻头接近模式空间姿态定量检测方案 | 第35-41页 |
| 3.1.1 偏转光束法的模型分析 | 第35-37页 |
| 3.1.2 激光三角法光路结构分析 | 第37-41页 |
| 3.1.2.1 激光三角法原理 | 第37页 |
| 3.1.2.2 斜射式三角法成像分析 | 第37-39页 |
| 3.1.2.3 检测光路模型分析 | 第39-41页 |
| 3.2 光刻头接近模式空间姿态定量调平方案 | 第41-46页 |
| 3.2.1 光刻头平面空间信息 | 第41-43页 |
| 3.2.2 硅片平面空间信息 | 第43-46页 |
| 3.3 光刻头硅片检测调平方案 | 第46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 光刻头姿态的检测调平系统 | 第47-68页 |
| 4.1 光路结构参数 | 第47-49页 |
| 4.1.1 检测指标 | 第47-48页 |
| 4.1.2 结构的参数的确定 | 第48-49页 |
| 4.2 关键光学器件 | 第49-53页 |
| 4.2.1 光源选择 | 第49-50页 |
| 4.2.2 光电传感器选择 | 第50-51页 |
| 4.2.3 PSD理论介绍 | 第51-53页 |
| 4.3 检测调平系统的结构搭建 | 第53-56页 |
| 4.3.1 光刻头和硅片移动装置 | 第54页 |
| 4.3.2 PSD调节装置 | 第54-55页 |
| 4.3.3 调平装置 | 第55页 |
| 4.3.4 激光器固定调节装置 | 第55-56页 |
| 4.4 软件设计 | 第56-65页 |
| 4.4.1 Labview介绍 | 第56页 |
| 4.4.2 软件总体设计 | 第56-57页 |
| 4.4.3 PSD光斑信息的采集处理模块设计 | 第57-60页 |
| 4.4.4 多点坐标数据处理模块设计 | 第60-62页 |
| 4.4.5 P562运动台控制模块设计 | 第62-64页 |
| 4.4.6 软件整体界面 | 第64-65页 |
| 4.5 误差分析 | 第65-67页 |
| 4.5.1 机械安装误差 | 第65页 |
| 4.5.2 PSD检测系统误差 | 第65-66页 |
| 4.5.3 拟合和平面方法误差 | 第66页 |
| 4.5.4 环境因素 | 第66-67页 |
| 4.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 光刻头悬持结构优化 | 第68-83页 |
| 5.1 有限元软件ANSYS Workbench介绍 | 第68-69页 |
| 5.2 光刻头双铰链悬持结构的设计 | 第69-78页 |
| 5.2.1 圆形铰链的厚度参数 | 第70-73页 |
| 5.2.2 双铰链悬持结构的垂直刚度 | 第73-75页 |
| 5.2.3 双铰链悬持结构的偏转刚度 | 第75-77页 |
| 5.2.4 双铰链结构光刻头的加工尺寸 | 第77-78页 |
| 5.3 双铰链悬持结构光刻过程仿真及外界因素影响 | 第78-82页 |
| 5.3.1 光刻过程仿真分析 | 第78-80页 |
| 5.3.2 外界因素对光刻过程的影响 | 第80-82页 |
| 5.4 本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 总结与展望 | 第83-85页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第83-84页 |
| 6.2 展望 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第90页 |