| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 传统可调滤波器的分类及基本原理 | 第11-14页 |
| 1.2.1 YIG技术可调滤波器 | 第11-12页 |
| 1.2.2 MEMS技术可调滤波器 | 第12-13页 |
| 1.2.3 变容二极管技术可调滤波器 | 第13-14页 |
| 1.3 消逝模腔体技术可调滤波器 | 第14-15页 |
| 1.4 消逝模谐振腔体技术的发展现状与趋势 | 第15-21页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 消逝模谐振腔的基本理论 | 第23-37页 |
| 2.1 消逝模腔体的基本特性 | 第23-26页 |
| 2.2 消逝模谐振腔的基本原理 | 第26-31页 |
| 2.2.1 消逝模谐振器谐振频率 | 第26-29页 |
| 2.2.2 消逝模谐振腔的无载Q值 | 第29-30页 |
| 2.2.3 消逝模谐振腔的二次模 | 第30-31页 |
| 2.3 同轴线与消逝模谐振器之间耦合分析 | 第31-35页 |
| 2.4 基于消逝模腔技术的谐振器制作与测试 | 第35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 宽可调消逝模谐振器设计与仿真 | 第37-49页 |
| 3.1 宽可调消逝模谐振器的调谐方式 | 第37-40页 |
| 3.1.1 磁制动微执行器可调消逝模谐振器 | 第37-38页 |
| 3.1.2 压电微制动执行器宽可调消逝模谐振器 | 第38-39页 |
| 3.1.3 静电微制动执行器宽可调消逝模谐振器 | 第39-40页 |
| 3.2 宽可调消逝模谐振器尺寸对调谐率及Q值的影响 | 第40-43页 |
| 3.2.1 腔体半径对消逝谐振器调谐率及Q值的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.2 电容柱半径对消逝谐振器调谐率的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.3 电容柱高度对消逝模谐振器频率及Q值的影响 | 第42-43页 |
| 3.3 加载电容极板之间增加介质薄膜对调谐率的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 基于光敏玻璃的宽可调消逝模谐振器设计与仿真 | 第46-48页 |
| 3.4.1 基于光敏玻璃的消逝模腔器精确建模与仿真 | 第46-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 基于光敏玻璃的宽可调消逝模谐振器制作 | 第49-66页 |
| 4.1 光敏玻璃的特性及其优势 | 第49-50页 |
| 4.2 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔加工工序实验 | 第50-52页 |
| 4.3 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔制作可实施性验证 | 第52-62页 |
| 4.3.1 光敏玻璃键合实验探索与验证 | 第52-60页 |
| 4.3.2 消逝模谐振腔体金属化实验 | 第60-61页 |
| 4.3.3 金属化消逝模谐振腔体底部开槽实验探究 | 第61页 |
| 4.3.4 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔加工制作 | 第61-62页 |
| 4.4 执行器制作 | 第62-63页 |
| 4.5 宽可调消逝模谐振器的组装与测试 | 第63-64页 |
| 4.5.1 宽可调消逝模谐振器的组装 | 第63页 |
| 4.5.2 测试设备简介与测试平台搭建 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 总结 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第73页 |
