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宽可调消逝模谐振器的设计与制作

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 研究背景第10-11页
    1.2 传统可调滤波器的分类及基本原理第11-14页
        1.2.1 YIG技术可调滤波器第11-12页
        1.2.2 MEMS技术可调滤波器第12-13页
        1.2.3 变容二极管技术可调滤波器第13-14页
    1.3 消逝模腔体技术可调滤波器第14-15页
    1.4 消逝模谐振腔体技术的发展现状与趋势第15-21页
    1.5 本论文的主要研究内容第21-23页
第二章 消逝模谐振腔的基本理论第23-37页
    2.1 消逝模腔体的基本特性第23-26页
    2.2 消逝模谐振腔的基本原理第26-31页
        2.2.1 消逝模谐振器谐振频率第26-29页
        2.2.2 消逝模谐振腔的无载Q值第29-30页
        2.2.3 消逝模谐振腔的二次模第30-31页
    2.3 同轴线与消逝模谐振器之间耦合分析第31-35页
    2.4 基于消逝模腔技术的谐振器制作与测试第35页
    2.5 本章小结第35-37页
第三章 宽可调消逝模谐振器设计与仿真第37-49页
    3.1 宽可调消逝模谐振器的调谐方式第37-40页
        3.1.1 磁制动微执行器可调消逝模谐振器第37-38页
        3.1.2 压电微制动执行器宽可调消逝模谐振器第38-39页
        3.1.3 静电微制动执行器宽可调消逝模谐振器第39-40页
    3.2 宽可调消逝模谐振器尺寸对调谐率及Q值的影响第40-43页
        3.2.1 腔体半径对消逝谐振器调谐率及Q值的影响第40-41页
        3.2.2 电容柱半径对消逝谐振器调谐率的影响第41-42页
        3.2.3 电容柱高度对消逝模谐振器频率及Q值的影响第42-43页
    3.3 加载电容极板之间增加介质薄膜对调谐率的影响第43-46页
    3.4 基于光敏玻璃的宽可调消逝模谐振器设计与仿真第46-48页
        3.4.1 基于光敏玻璃的消逝模腔器精确建模与仿真第46-48页
    3.5 本章小结第48-49页
第四章 基于光敏玻璃的宽可调消逝模谐振器制作第49-66页
    4.1 光敏玻璃的特性及其优势第49-50页
    4.2 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔加工工序实验第50-52页
    4.3 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔制作可实施性验证第52-62页
        4.3.1 光敏玻璃键合实验探索与验证第52-60页
        4.3.2 消逝模谐振腔体金属化实验第60-61页
        4.3.3 金属化消逝模谐振腔体底部开槽实验探究第61页
        4.3.4 基于光敏玻璃的消逝模谐振腔加工制作第61-62页
    4.4 执行器制作第62-63页
    4.5 宽可调消逝模谐振器的组装与测试第63-64页
        4.5.1 宽可调消逝模谐振器的组装第63页
        4.5.2 测试设备简介与测试平台搭建第63-64页
    4.6 本章小结第64-66页
第五章 全文总结与展望第66-68页
    5.1 总结第66-67页
    5.2 展望第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-73页
攻读硕士学位期间取得的成果第73页

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