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步进扫描投影光刻机同步运动控制策略及方法研究

致谢第1-5页
摘要第5-6页
ABSTRACT第6-11页
1 绪论第11-24页
   ·引言第11-12页
   ·光刻技术发展第12-14页
     ·浸没式双曝光或多重曝光光刻第12-13页
     ·极紫外光刻第13页
     ·纳米压印光刻第13-14页
     ·电子束无掩模光刻第14页
     ·表面等离子体光刻第14页
   ·步进扫描投影光刻机同步运动控制概述第14-22页
     ·步进扫描投影光刻机中的同步系统第15-18页
     ·同步性能对步进扫描投影光刻机光刻质量的影响第18-19页
     ·步进扫描投影光刻机同步运动控制第19-22页
   ·本文的内容安排第22-24页
2 步进扫描投影光刻机同步误差第24-40页
   ·引言第24页
   ·步进扫描投影光刻机同步性能指标特性分析第24-31页
     ·同步性能指标 MA 特性分析第25页
     ·同步性能指标 MSD 特性分析第25-31页
   ·掩模台与硅片台同步误差重复特性分析第31-32页
   ·步进扫描投影光刻机同步误差的主要影响因素第32-38页
     ·系统动力学对同步误差的影响第32-35页
     ·粗精叠层结构对同步误差的影响第35-37页
     ·同步算法对同步误差的影响第37-38页
   ·本章小结第38-40页
3 步进及扫描运动轨迹规划第40-63页
   ·引言第40页
   ·步进扫描投影光刻机中的步进及扫描运动第40-46页
     ·步进运动及扫描运动综述第40-41页
     ·步进扫描投影光刻机中的扫描运动第41-42页
     ·步进扫描投影光刻机中步进时间的确定第42-46页
   ·步进运动轨迹规划算法第46-52页
   ·扫描运动轨迹规划算法第52-55页
   ·步进扫描投影光刻机轨迹重叠规划算法第55-62页
     ·轨迹重叠规划约束基准第55-57页
     ·硅片台轨迹重叠算法第57-61页
     ·掩模台轨迹重叠算法第61页
     ·掩模台与硅片台同步时间匹配第61-62页
   ·本章小结第62-63页
4 粗精叠层运动平台动力学建模与运动控制第63-81页
   ·引言第63页
   ·掩模台及硅片台粗精叠层结构分析第63-64页
   ·粗精叠层运动平台动力学建模与分析第64-75页
     ·粗精叠层运动平台动力学模型第64-65页
     ·粗精叠层运动平台动力学模型解析及简化第65-67页
     ·粗精叠层运动平台动力学分析第67-75页
   ·粗精叠层运动平台控制第75-79页
     ·粗动台与精动台运动控制研究第75-77页
     ·粗精叠层控制第77-79页
   ·本章小结第79-81页
5 步进扫描投影光刻机同步运动控制研究第81-97页
   ·引言第81页
   ·掩模台与硅片台同步运动控制问题提出第81页
   ·掩模台与硅片台同步运动控制系统结构第81-86页
     ·双台同步控制结构分类第82-84页
     ·掩模台及硅片台同步运动控制结构第84-86页
   ·掩模台及硅片台同步运动控制算法第86-91页
     ·迭代学习控制原理第86-88页
     ·基于前馈—反馈迭代学习的同步运动控制算法第88-91页
   ·基于迭代学习方法的掩模台及硅片台同步运动控制第91-96页
     ·掩模台及硅片台同步运动控制迭代学习律收敛性第92-95页
     ·掩模台及硅片台同步运动控制仿真分析第95-96页
   ·本章小结第96-97页
6 同步运动控制实验研究第97-110页
   ·引言第97页
   ·控制系统的总体设计方案第97页
   ·同步运动控制系统各主要功能模块设计及选型第97-105页
     ·实验系统机械平台设计第98-99页
     ·执行机构选型第99页
     ·位置检测器件选型第99页
     ·基于 LABVIEW 的人机交互设计与实现第99-101页
     ·主控板卡设计第101-105页
   ·同步控制系统实验及结果分析第105-108页
   ·本章小结第108-110页
7 全文工作总结及展望第110-113页
   ·论文主要研究工作第110页
   ·论文主要创新点第110-111页
   ·下一步工作及展望第111-113页
参考文献第113-120页
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果第120-121页

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