| 第一章 绪论 | 第1-18页 |
| 1．1 光掩膜技术简介及目前在国内外的发展情况 | 第12-15页 |
| 1．2 本课题的来源、目的及主要研究内容 | 第15页 |
| 1．3 课题成果的应用前景 | 第15-18页 |
| 第二章 光刻铬膜系设计的基本原理及设计计算 | 第18-33页 |
| 2．1 光学薄膜设计的基本原理及相关计算 | 第18-28页 |
| 2．1．1 菲涅尔公式 | 第18-20页 |
| 2．1．2 应用菲涅尔系数的计算方法 | 第20-22页 |
| 2．1．3 在一透明基片上的单层吸收薄膜的特性计算 | 第22-25页 |
| 2．1．4 吸收膜和介质膜的多层吸收膜系的特性计算 | 第25-28页 |
| 2．2 光刻铬膜系的计算机模拟设计及菲涅尔算法计算 | 第28-33页 |
| 2．2．1 光刻铬膜系的特性设计 | 第28-29页 |
| 2．2．2 计算机模拟设计及菲涅耳算法计算 | 第29-33页 |
| 第三章 光刻铬膜系溅射镀膜原理 | 第33-41页 |
| 3．1 溅射的基本原理及参数控制 | 第33-37页 |
| 3．1．1 溅射的基本原理 | 第33-35页 |
| 3．1．2 溅射参数 | 第35-36页 |
| 3．1．3 溅射镀膜的特点 | 第36-37页 |
| 3．2 反应溅射的原理及参数控制 | 第37-38页 |
| 3．2．1 反应溅射的原理 | 第37页 |
| 3．2．2 反应溅射的反应过程 | 第37-38页 |
| 3．2．3 反应溅射工艺参数 | 第38页 |
| 3．3 磁控溅射镀膜原理及装置 | 第38-41页 |
| 3．3．1 磁控溅射镀膜原理 | 第38-39页 |
| 3．3．2 磁控溅射镀膜的装置 | 第39-41页 |
| 第四章 薄膜的表征方法 | 第41-45页 |
| 4．1 厚度控制及测量 | 第41页 |
| 4．2 组分表征 | 第41-42页 |
| 4．3 结构表征 | 第42-43页 |
| 4．4 表面形貌分析 | 第43-45页 |
| 第五章 薄膜样品的微结构及光学性能分析 | 第45-58页 |
| 5．1 样品的制备流程 | 第45页 |
| 5．2 样品的表面质量、膜层牢固度及环境试验 | 第45-46页 |
| 5．2．1 表面质量检验 | 第45-46页 |
| 5．2．2 膜层牢固度检验 | 第46页 |
| 5．2．3 环境试验 | 第46页 |
| 5．3 工作气体对光刻铬膜系膜层光学性能影响的研究 | 第46-50页 |
| 5．3．1 膜层光密度分析 | 第46-48页 |
| 5．3．2 膜层成分分析 | 第48-50页 |
| 5．4 膜层微结构对光刻铬膜系力学性能影响的研究 | 第50-58页 |
| 5．4．1 样品的刻蚀分析 | 第50页 |
| 5．4．2 原子力显微镜(AFM)表面形貌分析 | 第50-53页 |
| 5．4．3 X射线衍射(XRD)分析 | 第53-56页 |
| 5．4．4 最佳力学性能光刻铬膜系的光学性能验证 | 第56-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 个人论文 | 第61-62页 |
| 附录 | 第62-64页 |
