脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及发光特性研究
| 第一章 引言 | 第1-14页 |
| ·显示技术 | 第7-8页 |
| ·显示技术的发展前景 | 第8-9页 |
| ·射平板显示荧光薄膜的研究及其应用进展 | 第9-12页 |
| ·选题意义 | 第12-14页 |
| 第二章 理论基础 | 第14-30页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第14-18页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO中的缺陷 | 第15-16页 |
| ·ZnO的应用 | 第16-18页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第18-22页 |
| ·ZnO发光机理的研究 | 第22-29页 |
| ·光电显示材料的分类 | 第22-23页 |
| ·发光模式光电显示材料 | 第22-23页 |
| ·非发光模式光电显示材料 | 第23页 |
| ·材料发光的基本原理 | 第23-26页 |
| ·阴极射线激发材料发光的过程 | 第26-28页 |
| ·ZnO薄膜发光机理的研究状况 | 第28-29页 |
| ·ZnO薄膜的应用前景 | 第29-30页 |
| 第三章 实验方法 | 第30-45页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第30-38页 |
| ·脉冲激光沉积的物理过程 | 第30-37页 |
| ·脉冲激光镀膜的优缺点 | 第37-38页 |
| ·实验仪器及操作 | 第38-40页 |
| ·射频辅助脉冲激光沉积镀膜 | 第40-42页 |
| ·测试手段 | 第42-45页 |
| ·结构分析 | 第42页 |
| ·形貌分析 | 第42-44页 |
| ·发光特性测试 | 第44-45页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第45-64页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第46-53页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第46-49页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜表面结构的影响 | 第49-51页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜场致发光的影响 | 第51页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第51-53页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜的影响 | 第53-57页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第53-54页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜表面结构的影响 | 第54-56页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜场致发光的影响 | 第56页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第56-57页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜的影响 | 第57-60页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第57-59页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜场致发光的影响 | 第59-60页 |
| ·反应气氛对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第60页 |
| ·射频辅助对ZnO薄膜的影响 | 第60-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72页 |