DOE在工艺优化和电路优化设计中的应用研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·工艺设备与电路的统计表征的概念与意义 | 第9-11页 |
| ·统计表征与优化的概念 | 第9-10页 |
| ·工艺设备统计表征的意义 | 第10页 |
| ·基于仿真试验的电路系统优化的意义 | 第10-11页 |
| ·试验设计技术在微电路制造与设计中应用与研究现状 | 第11-13页 |
| ·基于试验设计的微电路工艺设备表征 | 第11-12页 |
| ·基于试验设计的电路优化设计 | 第12-13页 |
| ·本论文的主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 试验设计技术 | 第15-21页 |
| ·试验设计技术的基本概念 | 第15-16页 |
| ·工艺设备统计表征与优化的技术思路 | 第16-18页 |
| ·试验设计类型的选取与数据分析方法 | 第18-21页 |
| ·基本的“试验类型”与选取方法 | 第18-20页 |
| ·试验数据的处理方法 | 第20-21页 |
| 第三章 厚膜电阻工艺的统计表征与优化 | 第21-39页 |
| ·厚膜电阻工艺设备描述 | 第21-23页 |
| ·厚膜电阻的基本理论 | 第21-22页 |
| ·厚膜电阻的制造工艺 | 第22页 |
| ·厚膜电阻工艺表征与优化策略 | 第22-23页 |
| ·丝网印刷工序的统计表征方案 | 第23-29页 |
| ·试验目的 | 第23-24页 |
| ·目标值与影响因素的确定 | 第24-25页 |
| ·试验方案的确定 | 第25-28页 |
| ·试验实施时需注意的问题 | 第28页 |
| ·试验及数据采集 | 第28-29页 |
| ·数据分析 | 第29-33页 |
| ·试验数据的基本处理 | 第29-30页 |
| ·基于试验数据的表征模型 | 第30-33页 |
| ·丝网印刷工艺设备的优化 | 第33-37页 |
| ·图形示意模型关系 | 第34-35页 |
| ·期望函数优化 | 第35-36页 |
| ·优化结果 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 基于元模型的电路优化设计 | 第39-59页 |
| ·基本概念介绍 | 第39-43页 |
| ·表征电路的近似模型——元模型 | 第39-41页 |
| ·试验设计方案——充满空间设计 | 第41-43页 |
| ·DOE应用于电路优化设计的基本思路 | 第43-46页 |
| ·基于试验设计的射频放大器的优化 | 第46-57页 |
| ·射频放大器的基本分析 | 第46-47页 |
| ·基于PSpice优化模块的电路优化 | 第47-48页 |
| ·基于DOE技术的电路优化 | 第48-55页 |
| ·优化结果对比与分析 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 DOE软件与PSPICE软件的组合研究 | 第59-75页 |
| ·DOE分析软件的简单介绍 | 第59-62页 |
| ·PSPICE15.7 软件的简单介绍 | 第62-65页 |
| ·DOE软件调用PSPICE软件的基本思路 | 第65-72页 |
| ·修改电连接网表文件 | 第66页 |
| ·执行PSPICE仿真 | 第66-71页 |
| ·获取特征函数值 | 第71-72页 |
| ·DOE软件调用PSPICE软件的使用步骤 | 第72页 |
| ·本章小结 | 第72-75页 |
| 第六章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 附录A 丝网印刷工艺的试验数据 | 第83-85页 |
| 附录B 射频放大电路的试验数据 | 第85-90页 |
