| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 透明导电薄膜的概述 | 第15-18页 |
| 1.1.1 薄膜的种类及性能 | 第15-16页 |
| 1.1.2 氧化物膜系透明导电薄膜 | 第16-17页 |
| 1.1.3 柔性衬底氧化物膜系透明导电薄膜 | 第17-18页 |
| 1.2 ZnO的基本性质与性能 | 第18-22页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第18-20页 |
| 1.2.2 ZnO的物理性质 | 第20-21页 |
| 1.2.3 ZnO的光学特性 | 第21页 |
| 1.2.4 ZnO的电学特性 | 第21页 |
| 1.2.5 ZnO的其他特性 | 第21-22页 |
| 1.3 ZnO薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| 1.3.1 物理气相沉积法 | 第22页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 | 第22-23页 |
| 1.3.3 溅射法 | 第23页 |
| 1.3.4 分子束外延法 | 第23页 |
| 1.3.5 真空蒸发法 | 第23-24页 |
| 1.3.6 液相外延法 | 第24页 |
| 1.3.7 溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| 1.4 ZnO薄膜的现状 | 第24-26页 |
| 1.4.1 国外研究进展 | 第24-25页 |
| 1.4.2 国内研究进展 | 第25-26页 |
| 1.5 ZnO薄膜的应用 | 第26-28页 |
| 1.5.1 压电器件 | 第26页 |
| 1.5.2 光电器件 | 第26页 |
| 1.5.3 传感器 | 第26-27页 |
| 1.5.4 压敏元件 | 第27页 |
| 1.5.5 紫外探测器 | 第27页 |
| 1.5.6 太阳能电池 | 第27-28页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 薄膜的磁控溅射制备及其性能表征 | 第29-41页 |
| 2.1 溅射镀膜 | 第29-30页 |
| 2.1.1 溅射镀膜原理 | 第29页 |
| 2.1.1.1 靶材的溅射 | 第29页 |
| 2.1.1.2 溅射粒子的迁移 | 第29页 |
| 2.1.1.3 溅射粒子在基片上成膜 | 第29页 |
| 2.1.2 溅射镀膜特点 | 第29-30页 |
| 2.1.3 溅射镀膜的分类 | 第30页 |
| 2.2 磁控溅射镀膜 | 第30-32页 |
| 2.2.1 磁控溅射的原理 | 第30-32页 |
| 2.2.2 磁控溅射的特点 | 第32页 |
| 2.3 磁控溅射沉积系统的构成 | 第32-33页 |
| 2.4 磁控溅射制备薄膜的实验材料与设备 | 第33-34页 |
| 2.5 磁控溅射制备薄膜的实验流程 | 第34-35页 |
| 2.5.1 衬底的选择 | 第34页 |
| 2.5.2 衬底的清洗 | 第34-35页 |
| 2.5.3 磁控溅射制备薄膜 | 第35页 |
| 2.6 薄膜性能的表征方法 | 第35-41页 |
| 2.6.1X射线衍射分析（XRD） | 第35-36页 |
| 2.6.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第36-37页 |
| 2.6.3 紫外可见光分光光度计 | 第37页 |
| 2.6.4 台阶仪 | 第37-38页 |
| 2.6.5 四探针测试仪 | 第38-41页 |
| 第三章 ZnO薄膜的制备及其性能研究 | 第41-63页 |
| 3.1 溅射时间对ZnO薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| 3.1.1 溅射时间对ZnO薄膜结构的影响 | 第41-42页 |
| 3.1.2 溅射时间对ZnO薄膜形貌的影响 | 第42-43页 |
| 3.1.3 溅射时间对ZnO薄膜厚度的影响 | 第43页 |
| 3.1.4 溅射时间对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.2 溅射气压对ZnO薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| 3.2.1 溅射气压对ZnO薄膜结构的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.2 溅射气压对ZnO薄膜形貌的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3 溅射气压对ZnO薄膜厚度的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.4 溅射气压对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第47页 |
| 3.3 溅射功率对ZnO薄膜性能的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.1 溅射功率对ZnO薄膜结构的影响 | 第48页 |
| 3.3.2 溅射功率对ZnO薄膜形貌的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.3 溅射功率对ZnO薄膜厚度的影响 | 第49-50页 |
| 3.3.4 溅射功率对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第50页 |
| 3.4 衬底温度对ZnO薄膜性能的影响 | 第50-54页 |
| 3.4.1 衬底温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.2 衬底温度对ZnO薄膜形貌的影响 | 第52页 |
| 3.4.3 衬底温度对ZnO薄膜厚度的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.4 衬底温度对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 3.5 退火温度对ZnO薄膜性能的影响 | 第54-57页 |
| 3.5.1 退火温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第54-55页 |
| 3.5.2 退火温度对ZnO薄膜形貌的影响 | 第55页 |
| 3.5.3 退火温度对ZnO薄膜厚度的影响 | 第55-56页 |
| 3.5.4 退火温度对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第56-57页 |
| 3.6 靶基距对ZnO薄膜性能的影响 | 第57-60页 |
| 3.6.1 靶基距对ZnO薄膜结构的影响 | 第57-58页 |
| 3.6.2 靶基距对ZnO薄膜形貌的影响 | 第58-59页 |
| 3.6.3 靶基距对ZnO薄膜的膜厚的影响 | 第59页 |
| 3.6.4 靶基距对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第59-60页 |
| 3.7 本章小结 | 第60-63页 |
| 第四章 不同衬底的AZO薄膜的制备及其性能研究 | 第63-73页 |
| 4.1 不同衬底上AZO薄膜性能的影响 | 第63-66页 |
| 4.1.1 不同衬底对AZO薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| 4.1.2 不同衬底对AZO薄膜形貌的影响 | 第64页 |
| 4.1.3 不同衬底对AZO薄膜光学性能的影响 | 第64-65页 |
| 4.1.4 不同衬底对AZO薄膜电学性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.2 溅射功率对柔性衬底上AZO薄膜性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.2.1 溅射功率对柔性衬底上AZO薄膜光学性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.2.2 溅射功率对柔性衬底上AZO薄膜电学性能的影响 | 第67页 |
| 4.3 溅射气压对柔性衬底上AZO薄膜性能的影响 | 第67-69页 |
| 4.3.1 溅射气压对柔性衬底上AZO薄膜光学性能的影响 | 第68-69页 |
| 4.3.2 溅射气压对柔性衬底上AZO薄膜电学性能的影响 | 第69页 |
| 4.4 衬底温度对柔性衬底上AZO薄膜性能的影响 | 第69-71页 |
| 4.4.1 衬底温度对柔性衬底上AZO薄膜光学性能的影响 | 第70-71页 |
| 4.4.2 衬底温度对柔性衬底上AZO薄膜电学性能的影响 | 第71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 作者简介 | 第81页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学士论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
