紫外激光曝光光刻SU-8胶的工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| ·微电子机械系统（MEMS）及其应用前景 | 第8-12页 |
| ·MEMS 的制造技术 | 第12-16页 |
| ·半导体硅微细加工 | 第12-13页 |
| ·微细电火花加工 | 第13-14页 |
| ·高能粒子束加工 | 第14-15页 |
| ·LIGA 技术 | 第15-16页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第16页 |
| ·小结 | 第16-17页 |
| 第2章 LIGA 技术 | 第17-21页 |
| ·LIGA 技术发展状况 | 第17-18页 |
| ·LIGA 技术的工艺过程 | 第18-19页 |
| ·LIGA 技术的优缺点 | 第19-20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 第3章 准LIGA 技术 | 第21-32页 |
| ·UV-LIGA 技术 | 第21-25页 |
| ·激光刻蚀的LASER-LIGA 技术 | 第25-28页 |
| ·DEM 技术 | 第28-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第4章 紫外激光曝光SU-8 胶的光刻技术 | 第32-45页 |
| ·SU-8 光刻胶介绍 | 第32-34页 |
| ·激光曝光SU-8 胶的光刻优势 | 第34-38页 |
| ·光刻工艺流程 | 第38-44页 |
| ·涂胶 | 第38-41页 |
| ·前烘 | 第41-43页 |
| ·曝光 | 第43页 |
| ·后烘 | 第43页 |
| ·显影 | 第43-44页 |
| ·不同厚度SU-8 2150 胶的工艺参数 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第5章 紫外激光曝光SU-8 胶的工艺研究 | 第45-56页 |
| ·曝光深度随曝光时间的变化规律 | 第46-51页 |
| ·实验研究 | 第46-47页 |
| ·分析与讨论 | 第47-51页 |
| ·曝光深度随曝光功率的变化规律 | 第51-53页 |
| ·实验研究 | 第51-52页 |
| ·分析与讨论 | 第52-53页 |
| ·SU-8 胶微结构样品制作 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读学位期间发表论文及专利目录 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
