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CMOS反相器总剂量辐照效应建模方法研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
符号对照表第12-14页
缩略语对照表第14-17页
第一章 绪论第17-25页
    1.1 研究背景和意义第17-18页
    1.2 国内外研究现状第18-21页
        1.2.1 总剂量辐照效应第18-19页
        1.2.2 总剂量辐照效应的建模方法第19-21页
    1.3 研究目标和研究内容第21-22页
        1.3.1 研究目标第21页
        1.3.2 研究内容第21-22页
    1.4 创新之处和组织结构第22-25页
        1.4.1 创新之处第22页
        1.4.2 组织结构第22-25页
第二章 CMOS反相器总剂量辐照效应及其参数提取第25-35页
    2.1 CMOS反相器的工作原理第25-29页
    2.2 CMOS反相器总剂量辐照效应第29-32页
        2.2.1 总剂量辐照效应物理过程第29-30页
        2.2.2 总剂量辐照对CMOS反相器的影响第30-32页
    2.3 CMOS反相器阈值电压提取技术第32-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第三章 CMOS反相器总剂量辐照阈值电压提取方法第35-53页
    3.1 CMOS反相器阈值电压提取方法第35-39页
        3.1.1 方法原理第35-38页
        3.1.2 提取步骤第38-39页
    3.2 实验验证第39-52页
        3.2.1 实验方案第39-43页
        3.2.2 实验结果与分析第43-48页
        3.2.3 仿真与对比第48-52页
    3.3 本章小结第52-53页
第四章 CMOS反相器总剂量辐照效应建模方法第53-75页
    4.1 CMOS反相器总剂量辐照效应简化建模方法第53-60页
        4.1.1 简化模型原理第53-57页
        4.1.2 简化模型存在的问题第57-60页
    4.2 CMOS反相器总剂量辐照效应改进建模方法第60-66页
        4.2.1 总剂量辐照剂量率效应分析第60-62页
        4.2.2 考虑剂量率效应的CMOS反相器总剂量辐照效应模型第62-66页
    4.3 模型验证第66-74页
        4.3.1 总剂量辐照实验第66-69页
        4.3.2 改进模型的验证与分析第69-72页
        4.3.3 CMOS反相器总剂量辐照效应仿真第72-74页
    4.4 本章小结第74-75页
第五章 总结与展望第75-77页
    5.1 论文总结第75-76页
    5.2 研究展望第76-77页
参考文献第77-81页
致谢第81-83页
作者简介第83-85页

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