四针状ZnO的制备及性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 ZnO概述 | 第9-10页 |
| 1.2 四针状ZnO制备方法及国内外研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 选题依据和研究目标 | 第11页 |
| 1.4 研究内容和方法 | 第11-12页 |
| 1.5 本章小结 | 第12-13页 |
| 2 实验工艺的技术基础 | 第13-19页 |
| 2.1 化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| 2.1.1 化学气相沉积法的基本原理 | 第13-14页 |
| 2.1.2 化学气相沉积法的反应要求 | 第14页 |
| 2.2 场致电子发射 | 第14-16页 |
| 2.2.1 场致电子发射基本原理 | 第14-15页 |
| 2.2.2 场致发射性能的评价参数 | 第15-16页 |
| 2.2.3 F-N公式 | 第16页 |
| 2.3 四针状ZnO的场发射性能 | 第16-17页 |
| 2.4 四针状ZnO的其他性能 | 第17-18页 |
| 2.5 本章小结 | 第18-19页 |
| 3 不同工艺条件下四针状ZnO制备效果对比 | 第19-26页 |
| 3.1 试验原料与所用设备 | 第19页 |
| 3.2 四针状ZnO实验制备过程 | 第19-21页 |
| 3.3 试验结果及对比分析 | 第21-25页 |
| 3.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 4 四针状ZnO样品的形貌表征及结果 | 第26-33页 |
| 4.1 观察设备 | 第26页 |
| 4.2 样品准备 | 第26-27页 |
| 4.3 四针状ZnO样品微观形态的观测和分析 | 第27-32页 |
| 4.3.1 反应温度对四针状ZnO微观形态的影响 | 第27-29页 |
| 4.3.2 反应时间对四针状ZnO微观形态的影响 | 第29-32页 |
| 4.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 5 四针状ZnO的场致发射性能的测试及研究 | 第33-46页 |
| 5.1 四针状ZnO测试样品的制备 | 第33-37页 |
| 5.2 场致发射性能测试 | 第37-40页 |
| 5.2.1 场致发射测试系统简介 | 第37-38页 |
| 5.2.2 样品的场致发射性能测试 | 第38-40页 |
| 5.3 结果与分析 | 第40-45页 |
| 5.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 结论与展望 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
