基于DMD无掩模光刻质量控制研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第7-8页 |
| 1.2 光刻方法及质量影响因素 | 第8-17页 |
| 1.3 论文研究目的及内容 | 第17-18页 |
| 第二章 DMD无掩模光刻基本原理 | 第18-25页 |
| 2.1 数字微镜器件 | 第18-20页 |
| 2.1.1 DMD的特点 | 第18页 |
| 2.1.2 DMD的结构 | 第18-19页 |
| 2.1.3 DMD的光开关原理 | 第19-20页 |
| 2.2 DMD的成像原理 | 第20-24页 |
| 2.2.1 相干和非相干成像理论 | 第20-22页 |
| 2.2.2 单元微反射镜成像 | 第22-23页 |
| 2.2.3 微反射镜阵列成像 | 第23页 |
| 2.2.4 微反射镜阵列灰度成像 | 第23-24页 |
| 2.3 DMD无掩模光刻机基本构成 | 第24-25页 |
| 第三章 微透镜阵列掩模优化方法 | 第25-34页 |
| 3.1 空间分辨率对图形质量的影响 | 第25-27页 |
| 3.1.1 空间分辨率的影响分析 | 第25-26页 |
| 3.1.2 分模掩模设计方法 | 第26-27页 |
| 3.2 轮廓畸变对图形质量的影响 | 第27-30页 |
| 3.2.1 轮廓畸变的影响分析 | 第28页 |
| 3.2.2 分模掩模优化方法 | 第28-30页 |
| 3.3 其他影响因素分析 | 第30-31页 |
| 3.4 掩模优化结果 | 第31-34页 |
| 第四章 微透镜阵列的制备及工艺过程控制 | 第34-54页 |
| 4.1 实验制作 | 第34-48页 |
| 4.1.1 基片表面处理 | 第34-35页 |
| 4.1.2 涂胶 | 第35-37页 |
| 4.1.3 前烘 | 第37-38页 |
| 4.1.4 分模曝光 | 第38-42页 |
| 4.1.5 后烘 | 第42页 |
| 4.1.6 显影 | 第42-44页 |
| 4.1.7 坚膜 | 第44-45页 |
| 4.1.8 刻蚀 | 第45-48页 |
| 4.2 微透镜阵列面形检测 | 第48-54页 |
| 4.2.1 测试仪器及原理 | 第48-51页 |
| 4.2.2 检测结果与分析 | 第51-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第59页 |
