| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·透明导电薄膜的分类 | 第7-9页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的发展趋势和应用 | 第9页 |
| ·本论文的研究意义和主要研究内容 | 第9-11页 |
| 第二章 NiO薄膜性质和制备技术 | 第11-23页 |
| ·NiO薄膜的基本性质 | 第11-13页 |
| ·NiO薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·NiO薄膜的制备方法 | 第14-20页 |
| ·NiO薄膜的表征方法 | 第20-23页 |
| 第三章 磁控溅射制备氧化镍薄膜 | 第23-31页 |
| ·磁控溅射原理和特点 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射NiO薄膜成膜过程和主要影响因素 | 第24页 |
| ·NiO薄膜的制备过程 | 第24-29页 |
| ·NiO薄膜性质测试结果 | 第29-31页 |
| 第四章 溅射电压不同时NiO薄膜的性质变化及影响 | 第31-36页 |
| ·溅射电压不同时NiO薄膜的结构特性 | 第31-32页 |
| ·溅射电压不同时NiO薄膜的光学特性 | 第32-33页 |
| ·溅射电压不同时NiO薄膜的光学带隙 | 第33-34页 |
| ·溅射电压不同时NiO薄膜的电学特性 | 第34-36页 |
| 第五章 O_2/Ar不同时NiO薄膜的性质变化及影响 | 第36-39页 |
| ·O_2/Ar不同时NiO薄膜的结构特性 | 第36-37页 |
| ·O_2/Ar不同时NiO薄膜的光学特性 | 第37页 |
| ·O_2/Ar不同时NiO薄膜的光学带隙 | 第37-38页 |
| ·O_2/Ar不同时NiO薄膜的电学特性 | 第38-39页 |
| 第六章 衬底温度和靶距不同时NiO薄膜的性质变化及影响 | 第39-43页 |
| ·衬底温度不同时NiO薄膜的结构特性 | 第39-40页 |
| ·衬底温度不同时NiO薄膜的光学特性 | 第40-41页 |
| ·衬底温度不同时NiO薄膜的电学特性 | 第41页 |
| ·靶距不同时NiO薄膜的性质及其影响 | 第41-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |