| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-13页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-27页 |
| ·概述 | 第14-24页 |
| ·超临界二氧化碳(scCO_2) | 第14-16页 |
| ·超临界CO_2微乳液 | 第16-18页 |
| ·超临界CO_2的应用 | 第18-23页 |
| ·光刻胶 | 第23-24页 |
| ·研究现状与进展 | 第24-25页 |
| ·课题的选取 | 第25-27页 |
| 第二章 实验设备与测试分析方法 | 第27-34页 |
| ·超临界CO_2清洗设备系统 | 第27-29页 |
| ·测试分析方法 | 第29-34页 |
| ·样品表面成分测试 | 第29-31页 |
| ·样品表面形貌分析 | 第31-32页 |
| ·污染物的去除分析 | 第32-34页 |
| 第三章 超临界CO_2去除高温烘干光刻胶的性能研究 | 第34-43页 |
| ·实验样品的制备 | 第34-35页 |
| ·清洗衬底 | 第34页 |
| ·旋涂光刻胶 | 第34-35页 |
| ·超临界清洗的步骤与条件 | 第35-36页 |
| ·超临界清洗步骤 | 第35-36页 |
| ·超临界清洗条件 | 第36页 |
| ·光刻胶去除率的分析与计算 | 第36-37页 |
| ·实验结果影响因素分析 | 第37-43页 |
| ·烘干温度对光刻胶去除率的影响 | 第37-39页 |
| ·衬底和清洗压强对光刻胶去除率的影响 | 第39-40页 |
| ·温度和清洗时间对光刻胶去除率的影响 | 第40-41页 |
| ·助溶剂种类及用量对光刻胶去除率的影响 | 第41-43页 |
| 第四章 超临界CO_2去除高浓度离子注入光刻胶的性能研究 | 第43-65页 |
| ·实验样品的制备流程 | 第43-44页 |
| ·实验条件与测试分析 | 第44-46页 |
| ·实验条件 | 第44-46页 |
| ·测试分析 | 第46页 |
| ·实验结果与影响因素讨论 | 第46-62页 |
| ·清洗压力和反应温度对光刻胶去除率的影响 | 第46-51页 |
| ·磁搅拌和清洗时间对光刻胶去除率的影响 | 第51-54页 |
| ·不同种类表面活性剂对光刻胶去除率的影响 | 第54-59页 |
| ·表面活性剂浓度和水含量对光刻胶去除率的影响 | 第59-62页 |
| ·与传统清洗方法的对比 | 第62-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第74-76页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第76页 |