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巨磁阻抗效应在电流传感器中的应用研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-19页
   ·引言第10页
   ·巨磁阻抗效应简介第10-15页
     ·巨磁阻抗效应基本原理第10-12页
     ·巨磁阻抗理论模型第12-15页
   ·GMI传感器研究国内外研究现状与前景第15-17页
     ·传感器敏感材料研究现状第15-16页
     ·巨磁阻抗传感器研究现状第16-17页
     ·面临的问题和发展前景第17页
   ·本文研究内容第17-19页
第二章 巨磁阻抗材料制备与表征第19-25页
   ·巨磁阻抗传感器敏感元件选材第19-20页
   ·磁控溅射CoFE_2O_4薄膜层第20-21页
     ·磁控溅射设备第20页
     ·基底清洗第20-21页
     ·射频溅射工艺参数第21页
   ·退火工艺第21-22页
     ·等温退火工艺第21页
     ·直流焦耳热退火工艺第21-22页
   ·非晶薄带物理特性测量与巨磁阻抗效应测试第22-25页
     ·非晶相鉴定第22页
     ·表面形貌分析第22页
     ·磁性能测量第22-23页
     ·巨磁阻抗效应测量第23页
     ·有效磁导率测量第23-25页
第三章 薄带结构高频巨磁阻抗效应物理模型与数值计算第25-43页
   ·薄带结构巨磁阻抗效应物理模型第25页
   ·巨磁阻抗公式的推导第25-34页
     ·阻抗表达式的推导第25-28页
     ·有效磁导率表达式的推导第28-34页
   ·薄带模型数值计算与分析第34-41页
     ·应力等效场对巨磁阻抗效应的影响第35-36页
     ·动态量对巨磁阻抗效应的影响第36-39页
     ·磁各向异性场方向对巨磁阻抗效应的影响第39页
     ·饱和磁化强度对巨磁阻抗效应的影响第39-40页
     ·测试方式对巨磁阻抗效应的影响第40-41页
     ·磁谱第41页
   ·本章小结第41-43页
第四章 CO基非晶带材巨磁阻抗效应研究第43-58页
   ·CoFE_2O_4薄膜层对巨磁阻抗效应的影响第43-48页
     ·溅射气压对巨磁阻抗效应的影响第43-45页
     ·溅射时间对巨磁阻抗效应的影响第45-48页
   ·样品长度对巨磁阻抗效应影响第48-49页
   ·退火处理对巨磁阻抗效应影响第49-56页
     ·等温真空退火处理第49-53页
     ·直流焦耳热退火处理第53-56页
   ·本章小结第56-58页
第五章 巨磁阻抗电流传感器设计第58-71页
   ·巨磁阻抗电流传感器探头设计与工作原理第58-61页
     ·典型的传感器探头结构第58-60页
     ·GMI电流传感器工作原理第60-61页
     ·传感器探头设计第61页
   ·传感器电路设计第61-67页
     ·信号发生电路设计第62-63页
     ·前置放大电路设计第63-65页
     ·低通滤波电路设计第65页
     ·峰值检波电路设计第65-67页
     ·差动放大电路设计第67页
   ·传感器测试结果与分析第67-69页
   ·本章小结第69-71页
第六章 结论与展望第71-73页
   ·结论第71-72页
   ·展望第72-73页
致谢第73-74页
参考文献第74-78页
攻读硕士学位期间的研究成果第78页

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