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CdSe单晶体生长工艺与探测器性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
目录第9-13页
第一章 概论第13-32页
   ·半导体核辐射探测器研究进展第13-17页
   ·室温核辐射探测器材料要求第17-18页
   ·硒化镉(CdSe)的基本特性第18-20页
   ·CdSe晶体生长的研究进展第20-24页
     ·原料的提纯第20-21页
     ·晶体的生长方法第21-24页
   ·CdSe晶体热处理及其器件加工研究进展第24-26页
     ·热处理第24-25页
     ·表面处理第25页
     ·电极制备技术第25-26页
   ·CdSe核辐射探测器的研究进展第26-30页
   ·小结第30页
   ·本论文的主要研究内容和预期目标第30-32页
第二章 CdSe单晶体生长的热力学及动力学研究第32-52页
   ·CdSe晶体气相生长方法第32-33页
   ·CdSe晶体生长的热力学分析第33-38页
   ·CdSe晶体生长的动力学研究第38-51页
     ·生长动力学过程分析第38-41页
     ·动力学参数的确定第41-50页
     ·晶体生长速度的讨论第50-51页
   ·小结第51-52页
第三章 CdSe晶体生长工艺研究第52-63页
   ·CdSe晶体生长参数选择原则与工艺优化第52-54页
   ·晶体生长第54-56页
     ·多晶原料的提纯工艺第54-55页
     ·晶体生长工艺第55-56页
   ·CdSe晶体品质表征第56-62页
     ·晶体外观第56-57页
     ·单晶XRD测试第57-58页
     ·晶体的IV测试第58-59页
     ·晶体的红外表征第59-61页
     ·晶体的紫外吸收谱第61页
     ·位错蚀坑观察第61-62页
   ·小结第62-63页
第四章 CdSe晶体热处理研究第63-80页
   ·晶体缺陷研究的正电子湮没技术第63-64页
   ·退火装置与工艺第64-66页
     ·Se及Cd气氛下的退火第64页
     ·真空退火第64-66页
   ·气氛下的退火研究第66-73页
     ·退火机制第66页
     ·正电子湮没寿命值第66-69页
     ·红外透过与吸收第69-71页
     ·电学性能第71-73页
     ·小结第73页
   ·真空退火研究第73-78页
     ·正电子湮没寿命值第73-76页
     ·中红外透过及吸收第76-77页
     ·电学性能第77-78页
     ·小结第78页
   ·结论第78-80页
第五章 CdSe单晶体表面处理工艺研究第80-88页
   ·表面处理工艺第80-81页
   ·不同表面处理工艺下晶片的I─V特性第81页
   ·晶片表面处理工艺对表面形貌的影响第81-82页
   ·表面处理工艺对表面成分的影响第82-85页
   ·表面处理工艺对晶片电学性能的影响分析第85-86页
   ·小结第86-88页
第六章 CdSe核辐射探测器的接触电极研究第88-103页
   ·电极欧姆接触及肖特基势垒接触第89-92页
     ·欧姆接触第89-90页
     ·金属半导体肖特基势垒接触整流理论第90-92页
   ·电极接触制备工艺第92-93页
   ·不同材料制备的接触电极I─V特性第93-97页
   ·不同组合电极的I─V特性第97-100页
   ·电极接触面积对电荷收集效率的影响第100-102页
   ·小结第102-103页
第七章 CdSe核辐射探测器的制备及其性能测试第103-113页
   ·半导体探测器概述第103-106页
     ·半导体探测器的工作原理第103页
     ·探测器的漏电流第103-104页
     ·探测器的能量分辨率第104-106页
   ·CdSe探测器的制备第106-108页
     ·晶片切割和磨平抛光第106-107页
     ·晶片热处理第107页
     ·晶片表面处理第107页
     ·晶片接触电极制备第107-108页
     ·探测器的封装第108页
   ·探测器的能谱测试第108-112页
     ·能谱测试系统及测试方法第108-109页
     ·测试结果分析第109-112页
   ·小结第112-113页
第八章 结论第113-115页
参考文献第115-122页
附录第122-124页
致谢第124页

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