| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 引言 | 第7-11页 |
| 1 并五苯薄膜的制备 | 第11-15页 |
| ·并五苯薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| ·物理汽相沉积并五苯半导体薄膜 | 第13-15页 |
| ·实验装置 | 第13页 |
| ·ITO玻璃的预处理 | 第13-14页 |
| ·实验步骤 | 第14-15页 |
| 2 半导体薄膜的生长机理 | 第15-31页 |
| ·概述 | 第15-16页 |
| ·半导体薄膜的表面成核与生长 | 第16-25页 |
| ·亚单原子层成核规律 | 第16-19页 |
| ·岛的迁移和表面粗化 | 第19-21页 |
| ·三维生长模式 | 第21-25页 |
| ·基本理论方法 | 第25-26页 |
| ·二维岛的形貌演变 | 第26-31页 |
| ·表面扩散限制聚集(DLA)理论 | 第26-28页 |
| ·扩展的DLA理论 | 第28-29页 |
| ·原子的绕角运动 | 第29-31页 |
| 3 有机半导体并五苯薄膜的生长机理 | 第31-36页 |
| ·有机半导体薄膜生长热力学和动力学 | 第31-36页 |
| 4 实验数据与分析 | 第36-42页 |
| ·试验数据 | 第36-37页 |
| ·薄膜表面的SEM测试 | 第37-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |