摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-31页 |
·引言 | 第9-10页 |
·纳米材料基本内涵、纳米材料研究热点与趋势 | 第10-20页 |
·纳米材料的物理性质 | 第10-11页 |
·当前纳米材料研究热点与趋势 | 第11-20页 |
·模板法合成纳米材料 | 第20-26页 |
·纳米结构模板 | 第21-22页 |
·模板法制备纳米材料的合成原则与应用 | 第22-26页 |
·选题背景、研究内容及意义 | 第26-27页 |
·选题背景 | 第26页 |
·研究内容 | 第26-27页 |
·研究意义 | 第27页 |
参考文献 | 第27-31页 |
第二章 氧化铝有序孔阵列模板的制备 | 第31-40页 |
·引言 | 第31页 |
·氧化铝模板的制备和表征 | 第31-35页 |
·预处理过程 | 第31-32页 |
·阳极腐蚀 | 第32-35页 |
·影响Al_2O_3模板孔有序性的因素 | 第35页 |
·双通模板的制作 | 第35-36页 |
·去除氧化铝模板背面剩余铝 | 第35-36页 |
·去除障碍层 | 第36页 |
·Al_2O_3有序孔阵列的形成机理 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38页 |
参考文献 | 第38-40页 |
第三章 碳纳米管的模板合成及表征 | 第40-57页 |
·引言 | 第40-41页 |
·低压化学气相沉积法制备碳纳米管 | 第41-44页 |
·实验药品和仪器 | 第42页 |
·实验过程 | 第42-44页 |
·实验条件对产物的影响 | 第44-50页 |
·裂解时间的影响 | 第44-45页 |
·生长温度的影响 | 第45-47页 |
·载气含量的影响 | 第47-49页 |
·催化剂的影响 | 第49-50页 |
·场发射特性的测试 | 第50-53页 |
·场发射机制和理论模型 | 第50-51页 |
·测试结果与分析 | 第51-53页 |
·碳纳米管的生长机理 | 第53-55页 |
·化学气相沉积法的生长机理 | 第53-54页 |
·石墨电弧法生长碳纳米管的机制 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-57页 |
第四章 氧化锌纳米线的模板合成及表征 | 第57-65页 |
·引言 | 第57-58页 |
·课题背景及研究意义 | 第57-58页 |
·主要研究内容 | 第58页 |
·直流电化学沉积法制备ZnO纳米线 | 第58-60页 |
·实验药品和仪器 | 第58页 |
·实验过程 | 第58-59页 |
·样品测试 | 第59-60页 |
·实验结果与分析 | 第60-62页 |
·透射电子显微镜(TEM)及选区电子衍射(SAED)测试结果及讨论 | 第60页 |
·X射线衍射仪(XRD)测试结果及讨论 | 第60-61页 |
·X射线光电子能谱(XPS)测试结果及讨论 | 第61-62页 |
·PL谱测试结果及讨论 | 第62页 |
·结果讨论 | 第62-63页 |
·沉积机理讨论 | 第63页 |
参靠文献 | 第63-65页 |
第五章 结语 | 第65-67页 |
·主要实验结果和结论 | 第65-66页 |
·今后工作展望 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |