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CMOS RFIC衬底噪声分析及其对VCO性能的影响

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
第一章 前言第6-9页
   ·研究背景第6页
   ·研究CMOS RFIC中衬底噪声的必要性及现状第6-8页
   ·本文的研究意义第8页
   ·本文的组织结构第8-9页
第二章 CMOS工艺衬底噪声的产生,传播及衬底建模第9-21页
   ·衬底噪声的产生机制第9-13页
     ·由电源、地的键合线产生的衬底噪声第9-12页
     ·由晶体管产生的衬底噪声第12页
     ·由互联金属线引起的衬底噪声第12-13页
   ·衬底建模第13-21页
     ·轻掺杂衬底的建模原理第13-15页
     ·轻掺杂衬底RC网络的精简第15-16页
     ·SMIC 0.18um RF CMOS工艺的衬底模型第16-21页
第三章 衬底噪声对VCO的影响第21-30页
   ·LC-VCO的工作原理第21-22页
   ·VCO的相位噪声以及对通信系统的影响第22-25页
   ·衬底噪声对VCO影响的途径第25-27页
     ·由P+保护环引入的衬底噪声第25-26页
     ·由MOS晶体管引入的衬底噪声第26页
     ·由电感引入的衬底噪声第26-27页
   ·衬底噪声影响LC-VCO的原理第27-30页
第四章 实验设计及测试结果分析第30-51页
   ·衬底模型的精确性验证第30-39页
     ·基本测试结构和测试环境简介第30-32页
     ·测试数据处理(De-Embedding)第32-33页
     ·测试和仿真结果的比较第33-39页
   ·衬底噪声对VCO性能的影响分析第39-51页
     ·数字模块产生的衬底噪声对VCO性能影响实例第39-43页
     ·减小衬底噪声的方法研究第43-51页
       ·从噪声源头减小衬底噪声的产生第44-47页
       ·隔离措施对衬底噪声的抑制第47-51页
第五章 结论及展望第51-52页
   ·本论文现阶段工作的总结第51页
   ·可进一步研究的工作第51-52页
参考文献第52-54页
致谢第54-55页

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