| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-19页 |
| ·课题研究的意义 | 第13-14页 |
| ·计算材料科学研究的意义 | 第14-16页 |
| ·研究现状 | 第16-17页 |
| ·已取得的进展 | 第16-17页 |
| ·尚待解决的问题 | 第17页 |
| ·预期研究目标 | 第17-19页 |
| 第2章 研究方法与基础理论 | 第19-33页 |
| ·经典分子动力学理论 | 第19-22页 |
| ·基础理论与模型近似 | 第19-20页 |
| ·运动方程 | 第20页 |
| ·有限差分法 | 第20-22页 |
| ·常用参数及其物理意义 | 第22-28页 |
| ·平衡系综 | 第22-23页 |
| ·状态控制 | 第23-26页 |
| ·势函数 | 第26-27页 |
| ·边界条件 | 第27-28页 |
| ·模拟中常用的表征参数 | 第28-32页 |
| ·热力学和动力学参数 | 第28-29页 |
| ·微观结构表征 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 硅常用势函数的比较与选择 | 第33-44页 |
| ·硅的势函数 | 第33-36页 |
| ·SW 势 | 第33-34页 |
| ·Tersoff 势 | 第34-35页 |
| ·EDIP 势 | 第35-36页 |
| ·MEAM 势 | 第36页 |
| ·势函数与晶格参数 | 第36-39页 |
| ·势函数与熔化过程 | 第39-40页 |
| ·势函数与熔化后的液态结构 | 第40-41页 |
| ·SW 势下的晶格参数与温度 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 硅熔化过程的分子动力学模拟 | 第44-67页 |
| ·有界面体系熔点的计算 | 第44-48页 |
| ·固-液界面的构造 | 第45-46页 |
| ·平衡熔点计算 | 第46-48页 |
| ·影响熔点计算准确度的几个因素 | 第48-52页 |
| ·晶胞原子数对熔点的影响 | 第48-50页 |
| ·升温速率对熔点的影响 | 第50-52页 |
| ·理想晶体的熔化动力学 | 第52-60页 |
| ·熔化过程中的液相成核 | 第52-56页 |
| ·熔化过程的宏观动力学 | 第56-60页 |
| ·熔化过程中结构演化 | 第60-64页 |
| ·熔化过程中初始团簇结构 | 第60-63页 |
| ·熔化过程中Voronoi 结构的演化 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-67页 |
| 第5章 硅快速凝固过程分子动力学模拟 | 第67-86页 |
| ·玻璃相变点(T_g)的计算 | 第67-75页 |
| ·逆向滞后公式推导 | 第69-70页 |
| ·一种新的计算T_g方法——修正滞后法 | 第70-74页 |
| ·修正滞后法验证 | 第74-75页 |
| ·过冷液相硅的液-液相变 | 第75-79页 |
| ·过冷液相硅中液-液相变的判定 | 第76-78页 |
| ·过冷液相硅中液-液相变的Voronoi 结构特征 | 第78-79页 |
| ·冷却速率对液态硅的快速凝固过程的影响 | 第79-83页 |
| ·冷却速率对的扩散系数的影响 | 第79-81页 |
| ·冷却速率对配位数的影响 | 第81页 |
| ·不同冷却速率下的液-液相变 | 第81-83页 |
| ·不同冷却速率下的最终固体结构 | 第83页 |
| ·凝固过程结构演化 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第6章 硅在高压下的熔化与快速凝固 | 第86-95页 |
| ·高压下的熔化 | 第86-89页 |
| ·高压熔化的液态结构 | 第89-90页 |
| ·高压下过冷液相 | 第90-91页 |
| ·高压下快速凝固 | 第91-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 结论 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-106页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第106-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 作者简介 | 第109页 |