| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第6-15页 |
| 1.1 激光清洗技术概述 | 第6-10页 |
| 1.2 激光等离子体冲击波清洗技术的研究进展 | 第10-13页 |
| 1.3 本文的研究目的及意义 | 第13页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 激光等离子体冲击波清洗的物理基础 | 第15-25页 |
| 2.1 等离子体的产生 | 第15-16页 |
| 2.2 激光等离子体冲击波的形成 | 第16-17页 |
| 2.3 冲击波的基本方程 | 第17-19页 |
| 2.4 激光等离子体冲击波清洗理论模型 | 第19-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 激光等离子体冲击波清洗硅片表面纳米粒子的实验 | 第25-38页 |
| 3.1 实验装置与实验方法 | 第25-28页 |
| 3.2 实验参数对激光等离子体冲击波清洗效果的影响 | 第28-33页 |
| 3.3 激光聚焦透镜的像差对硅基底免于损伤的清洗实验影响 | 第33-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 结论及展望 | 第38-39页 |
| 致谢 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |