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基于锗悬空微桥结构准双异质结发光性能分析

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第10-16页
    1.1 研究背景与研究意义第10-11页
    1.2 Ge光源的研究第11-14页
    1.3 本文的主要工作第14-16页
2 应变Ge的能带结构第16-34页
    2.1 引言第16页
    2.2 应变的引入方法第16-19页
    2.3 能带计算理论第19-25页
        2.3.1 微扰理论第20-21页
        2.3.2 kp理论第21-22页
        2.3.3 应变Ge哈密顿量第22-25页
    2.4 应变Ge的能带结构及有效质量第25-33页
        2.4.1 应变对能带结构的影响第25-28页
        2.4.2 应变条件下禁带宽度的变化第28页
        2.4.3 应变条件下的有效质量第28-33页
    2.5 本章小结第33-34页
3 准双异质结的电传输特性分析第34-43页
    3.1 引言第34页
    3.2 悬空微桥应变量分布第34-36页
    3.3 漂移扩散模型第36-38页
    3.4 电传输特性分析第38-42页
    3.5 本章小结第42-43页
4 内量子效率和透明电流密度第43-60页
    4.1 引言第43页
    4.2 辐射跃迁第43-45页
    4.3 非辐射跃迁第45-47页
        4.3.1 SRH复合第45-46页
        4.3.2 俄歇复合第46-47页
    4.4 自由载流子吸收第47页
    4.5 Ge的光学性质分析第47-58页
        4.5.1 费米能级与载流子分布第47-49页
        4.5.2 自发辐射谱与内量子效率第49-52页
        4.5.3 光增益第52-53页
        4.5.4 吸收第53-56页
        4.5.5 透明电流密度第56-58页
    4.6 本章小结第58-60页
5 总结与展望第60-62页
    5.1 总结第60页
    5.2 展望第60-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-67页
附录 攻硕期间发表的学术论文及参加的科研项目第67页

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